[发明专利]电子部件、半导体封装件和电子器件有效
申请号: | 201210183161.X | 申请日: | 2007-05-22 |
公开(公告)号: | CN102738107A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 曾川祯道;山崎隆雄;高桥信明 | 申请(专利权)人: | 日本电气株式会社;瑞萨电子株式会社 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L23/498;H01L23/31 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 部件 半导体 封装 电子器件 | ||
1.一种半导体封装件,所述的半导体封装件包括:
多个电子构件,所述电子构件由基板和半导体元件中的至少一个形成;
电极片,所述电极片形成在每一个所述电子构件上;
阻挡金属层,所述阻挡金属层被形成用于覆盖所述电极片;
CuNiSn合金层,所述CuNiSn合金层具有等于或低于2.3的平均Ni/Cu比率,并且被形成用于覆盖所述阻挡金属层;
含P的P-富含NiCuSnP层或含P的P-富含NiSnP层,其形成在所述阻挡金属层和所述CuNiSn合金层之间;和
焊料凸起,所述焊料凸起被形成,以经由所述阻挡金属层、所述CuNiSn合金层和所述含P的P-富含NiCuSnP层或所述含P的P-富含NiSnP层将形成在不同的电子构件上的所述电极片相互电连接,
其中所述阻挡金属层包含与所述含P的P-富含NiCuSnP层或所述含P的P-富含NiSnP层接触的CuNiP合金层,所述CuNiP合金层含有等于或高于15原子%的Cu、等于或高于40原子%的Ni和高于0原子%并且等于或低于25原子%的P。
2.一种电子器件,
其中所述电子器件包含电子部件,所述电子部件包括:
电极片,所述电极片形成在基板或半导体元件上;和
阻挡金属层,所述阻挡金属层被形成用于覆盖所述电极片,
其中所述阻挡金属层在与所述电极片相反的一侧上包含CuNiP合金层,所述CuNiP合金层含有等于或高于15原子%的Cu、等于或高于40原子%的Ni和高于0原子%并且等于或低于25原子%的P。
3.一种电子器件,
其中所述电子器件包含根据权利要求1所述的半导体封装件。
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