[发明专利]一种广视角液晶显示器件及其制作工艺

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器件，尤其涉及一种广视角液晶显示器件及其制作工艺，可以有效地降低液晶显示器件出现残影的风险。

背景技术

目前，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)，为平面超薄的显示设备，它由一定数量的彩色或黑白像素组成，放置于光源或者反射面前方，其主要原理是以电流刺激液晶分子产生点、线、面配合背部灯管构成画面。广视角液晶显示器(如薄膜晶体管显示器，Thin film transistor liquid crystal display，简称TFT-LCD)即从多角度都能清晰地看到显示图像，这种广视角液晶显示器产品市场需求广阔，已成为掌上电脑、智能手机等电子产品的主流配件。目前，客户对广视角液晶显示器产品的性价比要求越来越高，市场竞争也越来越激烈，因而性价比更有优势的产品必将受到市场的欢迎，而对于生产厂家来说，高良品率、高性能、低成本无疑会提高产品竞争力和核心竞争力。

在使用液晶显示器的时候，可能会发现画面切换之时，前一个画面不会立刻消失，而是慢慢不见的现象，称这种现象叫做液晶显示器“残影”现象。液晶显示器件的高低温(常温)残影现象，特别是高温残影现象，一直是困扰LCD制造行业的难点问题。因为，盒内离子渗透到液晶内，在长时间通电后，离子会在盒内形成一个附加的弱电场；所以，在切换到灰阶画面后，该弱电场会对液晶分子施加作用，从而导致目视时可见前一个固定点亮时的画面，即残影现象。残影的出现，导致视觉效果变差，较大地影响了产品的性能。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种广视角液晶显示器件及其制作工艺，可以降低残影发生的风险。

为解决以上技术问题，本发明提供的技术方案是，一种广视角液晶显示器件，包括上基板和下基板，所述上基板和所述下基板之间封装有液晶，所述上基板与液晶的接触面之间和/或所述下基板与液晶的接触面之间设置有一离子阻挡层。

较优地，所述离子阻挡层为OC材料离子阻挡层，所述OC材料离子阻挡层厚度为1.0um-3.0um。

较优地，所述离子阻挡层为PI材料离子阻挡层，所述PI材料离子阻挡层厚度为500A-1500A，并覆盖基板与液晶的接触面。

较优地，所述离子阻挡层为SiO₂材料离子阻挡层，所述SiO2材料离子阻挡层厚度为500A-1500A，并覆盖基板与液晶的接触面。

在此基础上，本发明相应提供一种广视角液晶显示器件制作工艺，在其广视角TFT-LCD制作工艺中，在投入液晶盒单元之前，在下基板与液晶的接触面和/或上基板与液晶的接触面之间制作一离子阻挡层。

较优地，采用OC材料制作离子阻挡层，其厚度为1.0um-3.0um。

较优地，采用OC材料制作离子阻挡层的具体步骤为：通过旋涂或线涂OC，然后依次进行光刻胶的涂胶、显影、刻蚀和剥离，再在单个面板的对应位置形成OC图案。

较优地，采用PI材料制作离子阻挡层，其厚度为500A-1500A，并覆盖基板与液晶的接触面。

较优地，采用PI材料制作离子阻挡层的具体步骤为：通过移印方式涂布PI，然后进行预固化和主固化，再在单个面板的对应位置形成PI。

较优地，采用SiO₂材料制作离子阻挡层，其厚度为500A-1500A，并覆盖基板与液晶的接触面。

较优地，采用SiO₂材料制作离子阻挡层的具体步骤为：通过移印方式涂布SiO₂，然后进行预固化和主固化，再在单个面板的对应位置形成SiO₂图案

与现有技术相比，本发明在基板与液晶之间增加了一层离子阻挡层，可以减少盒内离子渗透入液晶中，从而减少液晶中离子的数量，由此大大降低LCD出现残影的风险，提高了产品的性能，具有较好的市场前景。

附图说明

图1是本发明广视角液晶显示器件较优实施例的结构示意图；

图2是本发明广视角液晶显示器件制作工艺较优实施例的流程图。

图1～图2中，有关附图标记如下：

1、偏光片；2、ITO层；3、玻璃基板；4、RGB层；5、O/C层；6、PI层；7、BM层；8、离子阻挡层；9、支撑物；10、液晶；11、环氧框；12、离子阻挡层；13、PI层；14、驱动IC；15；玻璃基板；16、偏光片。

具体实施方式