[发明专利]光学V型槽基板的精密成型工艺

权利要求书

1.一种光学V型槽基板的精密成型工艺，其特征在于，包括以下步骤：

台阶加工步骤，在片状光学基板上加工若干均匀分布的平行的台阶，台阶之间留出待加工V型槽区域；

基板切割步骤，将加工好台阶的片状光学基板按照待加工V型槽区域的数量切割成若干条状光学基板，每个条状光学基板包括有一个台阶和一个待加工V型槽区域；

V型槽切割步骤，将所述条状光学基板置于恒温循环冷却水中，在所述待加工V型槽区域内切割若干均匀分布的V型槽；

基板成型步骤，将切割好V型槽的条状光学基板按照V型槽的数量切割成若干单个光学V型槽基板。

2.如权利要求1所述的光学V型槽基板的精密成型工艺，其特征在于，所述V型槽切割步骤之前还包括有：

小槽磨切步骤，在所述待加工V型槽区域上磨切出均匀分布的小槽。

3.如权利要求1或2所述的光学V型槽基板的精密成型工艺，其特征在于，在所述基板成型步骤之后还包括有：

V型槽自检步骤，通过高倍放大镜将基板上的V型槽放大显示，并将放大后的V型槽图形与显示器上设置的标准V型槽图形对比，判断V型槽是否合格。

4.如权利要求3所述的光学V型槽基板的精密成型工艺，其特征在于，在所述V型槽切割步骤中，将所述光学基板放置在基板夹具中进行切割。

5.如权利要求4所述的光学V型槽基板的精密成型工艺，其特征在于，所述基板为玻璃基板。