[发明专利]盐、光致抗蚀剂组合物及用于制备光致抗蚀剂图案的方法

权利要求书

1.一种由式(I)表示的盐：

其中Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，

A¹表示C1-C30一价有机基团，

X¹表示其中氢原子可以被羟基代替的C1-C10脂族烃基，

m¹和m²各自独立地表示1至4的整数，以及

Z⁺表示有机阳离子。

2.根据权利要求1所述的盐，其中，A¹表示其中氢原子可以被羟基或卤素基团代替并且其中亚甲基可以被氧原子、磺酰基或羰基代替的C3-C30脂环族烃基。

3.根据权利要求1或2所述的盐，其中，A¹表示其中氢原子可以被羟基代替并且其中亚甲基可以被氧原子、磺酰基或羰基代替的C3-C30脂环族烃基。

4.根据权利要求1或2所述的盐，其中，X¹是C1-C5脂族烃基。

5.根据权利要求1或2所述的盐，其中，X¹是C2-C5脂族烃基。

6.根据权利要求1或2所述的盐，其中，m¹是2。

7.根据权利要求1或2所述的盐，其中，Z⁺是由式(b2-1-1)表示的有机阳离子：

其中，R^b19、R^b20和R^b21在每次出现时独立地是卤素原子、羟基、C1-C18烷基、C3-C18脂环族烃基、或C1-C12烷氧基，以及

v2、w2和x2各自独立地表示0至5的整数。

8.根据权利要求7所述的盐，其中，R^b19、R^b20和R^b21是甲基。

9.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含根据权利要求1或2所述的盐以及难溶于或不溶于碱性水溶液但通过酸的作用而可溶于碱性水溶液的树脂。

10.根据权利要求9所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物进一步包括具有由式(FI)表示的结构单元的树脂：

其中，R^F1表示氢原子或甲基，

A^F1表示C1-C6烷烃二基，以及

R^F2表示具有氟原子的C1-C10烃基。

11.一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括以下步骤(1)至(5)：

(1)将根据权利要求9或10所述的光致抗蚀剂组合物涂覆在基板上的步骤，

(2)通过进行干燥而形成光致抗蚀剂膜的步骤，

(3)将所述光致抗蚀剂膜曝光于辐射的步骤，

(4)烘焙曝光过的光致抗蚀剂膜的步骤，以及

(5)将烘焙过的光致抗蚀剂膜用碱性显影液显影，从而形成光致抗蚀剂图案的步骤。