[发明专利]一种吡喃类含氟化合物、制备方法及其用途

权利要求书

1.一种吡喃类含氟化合物，其结构如通式(I)所示：

其中，R₁和R₂独立地选自C₁～C₁₂的烷基或烷氧基、或C₂～C₁₂的烯基；L₁和L₂选自F或H，且L₁和L₂中的一个或两个为F；表示六元环中一个-CH₂-被氧原子取代的1，4-亚环己基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，其结构如通式(II)所示：

3.根据权利要求1或2所述的化合物，其特征在于，R₁和R₂独立地选自C₁～C₇的烷基或烷氧基、或C₂～C₇的烯基。

4.根据权利要求3所述的化合物，其特征在于，包括如下化合物：

5.权利要求1-4任一项所述吡喃类含氟化合物的制备方法，其特征在于，所述吡喃类含氟化合物的合成路线如下：

其中，R₁、R₂和如权利要求1-4任一项所定义；化合物(a)中的X代表卤素。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，化合物(a)中的X代表氯或溴。

7.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于，所述吡喃类化合物的制备方法包括以下步骤：

(1)将化合物(a)制成格氏试剂，然后在氯化铈存在下与化合物(b)反应生成化合物(c)；

(2)化合物(c)在酸催化下脱水形成化合物(d)；

(3)化合物(d)依次进行硼氢化和氧化，得到醇化合物(e)；

(4)将化合物(e)直接进行氟化反应，得单氟取代的化合物(f)，或先将化合物(e)中的羟基氧化成酮基，然后进行氟化反应，得双氟取代的化合物(h)。

8.权利要求1-4任一项所述吡喃类含氟化合物在制备液晶材料中的用途。