[发明专利]锍化合物、光致产酸剂及抗蚀剂组合物有效
申请号: | 201210188863.7 | 申请日: | 2012-06-08 |
公开(公告)号: | CN102911094A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 吴贞薰;尹队卿;赵承德;朴素晶 | 申请(专利权)人: | 锦湖石油化学株式会社 |
主分类号: | C07C381/12 | 分类号: | C07C381/12;C07C309/06;C07C309/12;C07D333/46;C07D307/64;C07D303/32;G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 安琪;张晓威 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 光致产酸剂 抗蚀剂 组合 | ||
1.由下式(1)表示的锍化合物:
[化学式1]
其中在式(1)中,
X表示给电子基团;
R1和R2各自独立地表示选自烷基、环烷基、芳基、杂烷基、杂环烷基和杂芳基中的任意一种,或者R1和R2可与同R1键合的硫原子一起结合以形成具有2至7个碳原子的杂环烷基;
R4至R6各自独立地表示选自烷基、环烷基、芳基、杂烷基、杂环烷基和杂芳基中的任意一种,或者R4和R5可与同R4键合的硫原子一起结合以形成具有2至7个碳原子的杂环烷基;
R3表示选自亚环烯基、亚杂环烯基、亚芳基和亚杂芳基中的任意一种;且
-A表示阴离子。
2.权利要求1的锍化合物,其中-A表示选自磺酸根阴离子、酰亚胺阴离子、甲基化物阴离子、卤代烷基阴离子、羧酸根阴离子、碘鎓阴离子和磺酰亚胺阴离子中的任意一种。
3.权利要求1的锍化合物,其中-A表示选自由下式(1-1)、(1-2)和(1-3)表示的阴离子中的任意一种:
[化学式1-1]
其中在式(1-1)中,
Q1、Q2、Q3和Q4各自独立地表示选自氢原子、卤素原子和烷基中的任意一种;
Y1表示选自亚烷基、亚烯基、NR′、S、O、CO及其组合中的任意一种,R′表示选自氢原子和烷基中的任意一种;
Y2表示选自氢原子、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基、杂芳基、杂烷基、烯丙基、全氟烷基、卤代烷基和烷基磺酰基中的任意一种;
n表示0至10的整数,m表示0至10的整数,且l表示0至5的整数;
[化学式1-2]
其中在式(1-2)中,
Y3和Y4各自独立地表示选自亚烷基、亚烯基、NR′、S、O、CO、O2S及其组合中的任意一种,R′表示选自氢原子和烷基中的任意一种;
Y5和Y6各自独立地表示选自氢原子、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基、杂芳基、杂烷基、烯丙基、全氟烷基、卤代烷基和烷基磺酰基中的任意一种;
o表示0至5的整数,且p表示0至5的整数;和
[化学式1-3]
其中在式(1-3)中,
Y7、Y8和Y9各自独立地表示选自氢原子、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基、杂芳基、杂烷基、烯丙基、全氟烷基、卤代烷基和烷基磺酰基中的任意一种。
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