[发明专利]锍化合物、光致产酸剂及抗蚀剂组合物有效

专利信息
申请号: 201210188863.7 申请日: 2012-06-08
公开(公告)号: CN102911094A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 吴贞薰;尹队卿;赵承德;朴素晶 申请(专利权)人: 锦湖石油化学株式会社
主分类号: C07C381/12 分类号: C07C381/12;C07C309/06;C07C309/12;C07D333/46;C07D307/64;C07D303/32;G03F7/004;G03F7/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 安琪;张晓威
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 化合物 光致产酸剂 抗蚀剂 组合
【权利要求书】:

1.由下式(1)表示的锍化合物:

[化学式1]

其中在式(1)中,

X表示给电子基团;

R1和R2各自独立地表示选自烷基、环烷基、芳基、杂烷基、杂环烷基和杂芳基中的任意一种,或者R1和R2可与同R1键合的硫原子一起结合以形成具有2至7个碳原子的杂环烷基;

R4至R6各自独立地表示选自烷基、环烷基、芳基、杂烷基、杂环烷基和杂芳基中的任意一种,或者R4和R5可与同R4键合的硫原子一起结合以形成具有2至7个碳原子的杂环烷基;

R3表示选自亚环烯基、亚杂环烯基、亚芳基和亚杂芳基中的任意一种;且

-A表示阴离子。

2.权利要求1的锍化合物,其中-A表示选自磺酸根阴离子、酰亚胺阴离子、甲基化物阴离子、卤代烷基阴离子、羧酸根阴离子、碘鎓阴离子和磺酰亚胺阴离子中的任意一种。

3.权利要求1的锍化合物,其中-A表示选自由下式(1-1)、(1-2)和(1-3)表示的阴离子中的任意一种:

[化学式1-1]

其中在式(1-1)中,

Q1、Q2、Q3和Q4各自独立地表示选自氢原子、卤素原子和烷基中的任意一种;

Y1表示选自亚烷基、亚烯基、NR′、S、O、CO及其组合中的任意一种,R′表示选自氢原子和烷基中的任意一种;

Y2表示选自氢原子、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基、杂芳基、杂烷基、烯丙基、全氟烷基、卤代烷基和烷基磺酰基中的任意一种;

n表示0至10的整数,m表示0至10的整数,且l表示0至5的整数;

[化学式1-2]

其中在式(1-2)中,

Y3和Y4各自独立地表示选自亚烷基、亚烯基、NR′、S、O、CO、O2S及其组合中的任意一种,R′表示选自氢原子和烷基中的任意一种;

Y5和Y6各自独立地表示选自氢原子、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基、杂芳基、杂烷基、烯丙基、全氟烷基、卤代烷基和烷基磺酰基中的任意一种;

o表示0至5的整数,且p表示0至5的整数;和

[化学式1-3]

其中在式(1-3)中,

Y7、Y8和Y9各自独立地表示选自氢原子、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基、杂芳基、杂烷基、烯丙基、全氟烷基、卤代烷基和烷基磺酰基中的任意一种。

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