[发明专利]光刻机运动台反力抵消装置及应用其的光刻机

权利要求书

1.一种光刻机运动台反力抵消装置，其特征是，包括：

反力框架，设置于光刻机基础框架上；

配重块，设置于光刻机运动台电机定子的一端；

阻尼元件，其一端连接于所述电机定子的一端，另一端连接于所述反力框架；以及

弹性元件，一端连接于所述的电机定子，另一端连接于所述反力框架；

所述弹性元件设置在所述电机定子的两端；

所述电机定子设置在滑块上，所述滑块设置在运动台大理石之上的固定直线导轨上，所述滑块带动所述电机定子沿所述固定直线导轨做直线运动；

其中当所述电机定子与所述滑块、所述配重块一起在电机驱动反力作用下沿所述固定直线导轨做直线运动时，所述电机定子与所述滑块、所述配重块的动能在所述配重块与所述阻尼元件的作用下逐渐衰减，在所述电机定子停止运动后，所述电机定子在所述弹性元件的作用下回复至初始位置。

2.根据权利要求1所述的光刻机运动台反力抵消装置，其特征是，所述阻尼元件与所述弹性元件通过所述反力框架将力传递至基础框架。

3.根据权利要求1所述的光刻机运动台反力抵消装置，其特征是，还包括：

第一位移测量元件，位于所述电机定子与所述运动台电机动子之间，用于测量所述电机定子与所述运动台电机动子之间的相对位移；以及

第二位移测量元件，位于所述电机动子与所述运动台大理石之间，用于测量所述电机动子与所述运动台大理石之间的相对位移。

4.一种光刻机，其特征是，包括：

基础框架；

内部框架；

曝光系统；

运动台；以及

如权利要求1至3中任意一项所述的光刻机运动台反力抵消装置。

5.根据权利要求4所述的光刻机，其特征是，所述曝光系统和所述运动台都设置在所述内部框架内。

6.根据权利要求5所述的光刻机，其特征是，所述基础框架与所述内部框架之间设置有减震器。