[发明专利]一种改善偏光片贴附的显示面板有效

专利信息
申请号: 201210189976.9 申请日: 2012-06-11
公开(公告)号: CN102749753A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 麦真富;彭海波 申请(专利权)人: 深超光电(深圳)有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G09F9/33
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 改善 偏光 片贴附 显示 面板
【说明书】:

【技术领域】

发明涉及一种平板显示装置,尤其涉及在平板显示装置的制造中,改善偏光片与基板的贴附,可降低贴附气泡的产生。

【背景技术】

在近几十年,显示器发展迅速。从最初的阴极射线管(Cathode Ray Tube,CRT),发展成目前最常见的液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD),再发展出前瞻技术有机电致发光二极管显示器(Organic Light-emitting Display,OLED),显然,平板显示器已经成为显示领域的发展的主导。单从液晶显示器的发展来看,也是经历了不同的技术阶段:最初的向列扭转型(Twisted Nematic,TN)液晶显示器,因相比传统的阴极射线管(Cathode Ray Tube,CRT),具有低耗能的优势,逐渐开始抢占CRT在市场上的主导地位。但TN液晶显示器存在可视角度窄,在消费者众多的生活工作中,比如家庭影院,游戏设备等,效果表现上还存在很多需提升的空间。随之诞生了以广视角技术为基础的液晶显示器,诸如多域垂直配向型(Multi-domain Vertical Alignment,MVA)液晶显示器、面内切换型(In-plane Switching,IPS)液晶显示器、边缘切换型型(Fringe Field Switching,FFS)液晶显示器等。

我们知道,虽然现在LCD的显示技术日益成熟,类型繁多,但其基本原理和基本结构并无多大差异。请参照图1所示,LCD显示面板10的主要结构包括:做为上基板的彩色滤光(Color Filter,CF)基板100a与做为下基板的薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)阵列基板100b相对设置,液晶层130夹持在CF基板与TFT阵列基板之间,框胶120密封液晶层130,并贴合CF基板110a与TFT阵列基板110b;CF基板100a的外侧面对应贴附上偏光片100a,TFT阵列基板100b的外侧面对应贴附下偏光片100b。通常,从背光源发射出来的入射光,依次会通过TFT阵列基板侧偏光片110,TFT阵列基板100b,液晶层130,CF基板100a和CF侧基板侧偏光片110。偏光片110贴附位置为显示面板10的有效显示区域(Active Area,AA)。当外接信号电压的驱动下,液晶层中的液晶分子发生偏转,会选择性透过从背光源一侧穿透的光线,最后显示出的画面被用户接收。就显示效果来看,除了对光偏振向做扭转的液晶分子和起到加色作用的彩色滤光片外,还存有对显示画面对比度和色彩灰阶有重要贡献的元件,就是偏光片。偏光片具有穿透特定偏振向的光,吸收掉其他偏振向的光的特点,当其运用在液晶显示装置上时,保障了光强和灰阶的连续变化。在液晶显示面板中,两侧基板各贴附上偏振向互相垂直的偏光片。就常白模式而言,在一子画素被开启时,若无任何的信号电压,液晶分子则依配向方向排列,穿过TFT阵列基板侧的入射光经液晶分子的扭转,其偏振向改变为与CF基板侧的偏光片的偏振向相同,从而不会被CF基板侧的偏光片吸收,此时光强度最强。若存在信号电压,例如使液晶分子受到电场而站立,站立角度与基板垂直,这种情况下,经过TFT阵列基板侧的入射光得不到液晶分子的扭转,其偏振向不变,在通过CF基板侧偏光片时,全被吸收掉,此时光强度最弱。前述两种光强值是一个子画素的两种灰阶极端值,也就是说,从全白到全黑的变化过程,实质就是光强度的一个递变过程,只要按外接信号调整液晶分子的转向,导引从TFT阵列基板侧偏光片过滤来的入射光不同程度地穿过CF基板侧的偏光片,则可以得到各种光强度。若给子画素再搭配特定颜色的滤光片,则会显示对应的色彩。目前,传统的液晶显示面板中的一个画素,通常包括三个类似这样的子画素,并各自搭配上红、绿、蓝三种滤光片,所以该三种色彩通过各自不同的光强混合,就会衍生出更多色彩,即灰阶度增多。由此可知,在光强的递变和灰阶的显示中,偏光片起到重要的作用。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深超光电(深圳)有限公司,未经深超光电(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210189976.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top