[发明专利]一种提高发光二极管发光效率的方法无效

专利信息
申请号: 201210190079.X 申请日: 2012-06-11
公开(公告)号: CN102709424A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 韩杰;魏世桢 申请(专利权)人: 华灿光电股份有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/00
代理公司: 江西省专利事务所 36100 代理人: 胡里程
地址: 430223 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 发光二极管 发光 效率 方法
【权利要求书】:

1.一种提高发光二极管发光效率的结构,该二极管外延片结构从下向上的顺序依次为衬底(1)、低温缓冲层(2)、高温缓冲层(3)、N型层(4)、N型层(5)、电流扩展层 (6)、N型层(7)、发光层MQW (8)、P型层(9)、P型层(10)、 P型层(11);其特征在于:电流扩展层(6)采用了超晶格结构组成, 并且N型层(7)的总厚度不超过50nm。

2.如权利要求1所述一种提高发光二极管发光效率的方法,其特征在于:电流扩展层(6)的掺杂浓度小于N型层(5、7)。

3.如权利要求1所述一种提高发光二极管发光效率的方法,其特征在于:电流扩展层(6)由层(如图2 所示的6a)AlxGa1-xN  0≤x<1和层(如图2 所示的6b)AlyGa1-yN  0≤y<1组成超晶格结构,其中x<y<1。

4.如权利要求1所述一种提高发光二极管发光效率的方法,其特征在于:电流扩展层(6)中(6a、6b)可以是非掺杂的也可以是N型掺杂的。

5.如权利要求1所述一种提高发光二极管发光效率的方法,其特征在于:电流扩展层(6)中6a的厚度≥6b的厚度。

6.如权利要求1所述一种提高发光二极管发光效率的方法,其特征在于:电流扩展层(6)中超晶格结构的周期数为3到15个之间。

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