[发明专利]曝光装置和曝光方法、以及曝光单元及使用该单元的曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，具有：用于保持具有图案的掩模的掩模载置台；具有用于将作为被曝光件的多个基板进行保持的工件卡盘的基板载置台；和借助所述掩模的图案向所述基板照射曝光用光的照明光学系统，

在保持于所述工件卡盘的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模图案对向配置的状态下，从所述照明光学系照射所述曝光用光，由此将所述掩模的图案曝光到所述多个基板上。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模具有多个图案，所述照明光学系统借助所述掩模的多个图案向所述多个基板照射曝光用光，在保持于所述工件卡盘的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模的各图案对向配置的状态下，从所述照明光学系统照射所述曝光用光，由此将作为第一层的所述掩模的各图案单次曝光到所述多个基板上。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板是尺寸预先与液晶显示器所采用的尺寸匹配的基板。

4.根据权利要求2或3所述的曝光装置，其特征在于，能够存取所述工件卡盘的第一搬送装置和第二搬送装置配置在互不相同的方向上。

5.根据权利要求2或3所述的曝光装置，其特征在于，能够存取所述工件卡盘的第一搬送装置和第二搬送装置夹着所述基板载置台相互接近地串联配置。

6.根据权利要求2或3所述的曝光装置，其特征在于，能够存取所述工件卡盘的第一搬送装置和第二搬送装置与所述基板载置台平行且相互接近地并联配置。

7.一种曝光单元，其特征在于，具有如权利要求1所述的曝光装置、第一搬送单元和第二搬送单元，

所述的曝光装置还具有基板载置台，所述基板载置台包括分别具备工件卡盘的第一基板载置台和第二基板载置台，

所述曝光装置还具有第一载置台移动机构和第二载置台移动机构，

所述第一载置台移动机构使所述第一基板载置台在曝光位置与由所述第二基板载置台将所述多个基板搬入和搬出的第一搬入/搬出位置之间移动，所述曝光位置为使所述第一基板载置台或所述第二基板载置台的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模对置的位置，

所述第二载置台移动机构使所述第二基板载置台在所述曝光位置与由所述第二基板载置台将所述多个基板搬入和搬出的第二搬入/搬出位置之间移动，

所述第一搬送单元和所述第二搬送单元分别具有用于保持所述基板，并能够相对于各所述工件卡盘搬入和搬出所述基板出的多个搬送装置，

在保持于所述第一基板载置台或所述第二基板载置台的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模对置的状态下，所述照明光学系统借助所述多个掩模向所述多个基板照射曝光用光，由此将所述多个基板同时曝光。

8.根据权利要求7所述的曝光单元，其特征在于，当保持于所述第一基板载置台的所述多个基板在所述曝光位置进行曝光时，所述第二基板载置台在所述第二搬入/搬出位置待机；当保持于所述第二基板载置台的所述多个基板在所述曝光位置进行曝光时，所述第一基板载置台在所述第一搬入/搬出位置待机。

9.根据权利要求7所述的曝光单元，其特征在于，所述曝光装置采用单次曝光方式。

10.根据权利要求7所述的曝光单元，其特征在于，所述掩模载置台保持有多个所述掩模，所述照明光学系统具有借助所述各掩模向所述各基板照射曝光用光的多个照明光学系统，所述曝光装置利用多个照明光学系统对所述多个基板分别进行曝光。

11.一种曝光方法，其是用于曝光装置的曝光方法，其特征在于，所述曝光装置具有：用于保持具有图案掩模的掩模载置台；具有用于保持作为被曝光件的多个基板的工件卡盘的基板载置台；和借助所述掩模的图案向所述基板照射曝光用光的照明光学系统，

在保持于所述工件卡盘的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模的图案对向配置的状态下，从所述照明光学系统照射曝光用光，由此将所述多个掩模的图案曝光到所述多个基板上。

12.根据权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述掩模具有多个图案，所述照明光学系统借助所述掩模的多个图案向所述多个基板照射曝光用光，在保持于所述工件卡盘的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模的各图案对向配置的状态下，从所述照明光学系统照射所述曝光用光，由此将作为第一层的所述掩模的各图案单次曝光到所述多个基板上。