[发明专利]离子注入监测装置有效
| 申请号： | 201210191876.X | 申请日： | 2012-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN103000481A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 张钧琳;黃至鸿;郑迺汉;杨棋铭;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/244;H01J37/304 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子 注入 监测 装置 | ||
1.一种装置，包括：
晶圆保持器，被配置成支撑晶圆；
第一传感器，被配置成与所述晶圆保持器同时移动，其中，所述第一传感器和所述晶圆保持器位于均匀的离子注入流轮廓的有效区域内；以及
第一测流计，连接至所述第一传感器，用于接收来自所述第一传感器的第一感测信号。
2.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：
第二传感器，被配置成与所述晶圆保持器同时移动，其中，所述第二传感器位于均匀的离子注入流轮廓的所述有效区域内；以及
第二测流计，连接至所述第二传感器，用于接收来自所述第二传感器的第二感测信号。
3.根据权利要求2所述的装置，进一步包括：环形束轮廓分析仪，其中：
所述环形束轮廓分析仪设置为与所述晶圆保持器上的所述晶圆相邻；
所述第一传感器设置在所述环形束轮廓分析仪上方；以及
所述第二传感器设置在所述环形束轮廓分析仪上方。
4.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：控制器，被配置成生成点状离子束的1-D机械扫描，所述点状离子束的1-D机械扫描生成均匀的离子注入流轮廓。
5.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：控制器，被配置成生成带状离子束的1-D机械扫描，所述带状离子束的1-D机械扫描生成均匀的离子注入流轮廓。
6.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：控制器，被配置成生成点状离子束的2-D机械扫描，所述点状离子束的2-D机械扫描生成均匀的离子注入流轮廓。
7.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一传感器由石墨制成。
8.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：
第一法拉第杯，探测离子颗粒，其中，所述第一法拉第杯设置成与所述晶圆保持器上方的所述晶圆相邻；以及
第二法拉第杯，探测离子颗粒，其中，所述第二法拉第杯和所述第一法拉第杯相对于所述晶圆对称。
9.一种系统，包括：
离子束发生器；
离子注入监测装置，包括：
晶圆保持器，被配置成支撑晶圆；
第一传感器，被配置成与所述晶圆保持器同时移动，其中，所述第一传感器和所述晶圆保持器位于均匀的离子注入流轮廓的有效区域内；以及
第一测流计，连接至所述第一传感器，用于接收来自所述第一传感器的第一感测信号；以及
控制器，连接至所述第一测流计。
10.一种方法，包括：
由离子束产生均匀的离子注入流轮廓；
将第一传感器设置在所述均匀的离子注入流轮廓的有效范围内；以及
基于来自所述第一传感器的第一感测信号估计第一离子剂量。
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