[发明专利]受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法

权利要求书

1.一种受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法，其特征包含：

一个流洗步骤，将活性碳置于一个容室内，一个去除剂通入该容室对活性碳进行流洗，该去除剂包含超临界二氧化碳流体、一种辅助溶剂及一种金属复合剂；及

一个置换分离步骤，将一种置换流体通入该容室，以替换该容室中的去除剂，再将该置换流体与活性碳分离。

2.如权利要求1所述的受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法，其特征在于：该金属复合剂为Bis-trifluoroethyldithiocarbamate（双-三氟化二硫代胺基甲酸盐，简称FDDC）、Diethyldithiocarbamate（二乙基二硫代氨基甲酸，简称DDC）、Dipropyl- dithiocarbamate（二丙基二硫代氨基甲酸盐，简称P3DC）、Dibutyldithiocarbamate（二丁基二硫代氨基甲酸盐，简称BDC）、Dipentyldithiocarbamate（二戊基二硫代氨基甲酸盐，简称P5DC）、Dihexyldithiocarbamate（二己基二硫代氨基甲酸盐，简称P6DC）、Pyrrolidine-dithiocarbamate（吡咯烷二硫氨基甲酸盐，简称PDC）、Acetylacetone（2,4-戊二酮，简称AA）、Trifluoroacetylacetone（1,1,1-三氟-2,4-戊二酮，简称TFA）、Hexafluoroacetyl- acetone（六氟乙酰丙酮，简称HFA）、Thenoyltrifluoroacetone（2-噻吩甲酰三氟丙酮，简称TTA）、Heptafluorobutanoyl-pivaroylmethane（2,2-二甲基-6,6,7,7,8,8,8,-七氟-3,5-辛二酮，简称FOD）、Tributylphosphate（磷酸三丁酯，简称TBP）、Tributylphosphine oxide（氧化三丁基膦，简称TBPO）、Trioctylphosphine oxide（氧化三辛基膦，简称TOPO）、Triphenylphosphine oxide（氧化三苯基膦，简称TPPO）、Bis(2,4,4,- trimethylpentyl)phosphinic acid（二(2,4,4-三甲基戊基)膦酸，简称Cyanex 272）、Bis(2,4,4,-trimethylpentyl)dithiophosphinic acid（二(2,4,4-三甲基戊基）二硫代膦酸，简称Cyanex 301）、Bis(2,4,4,-trimethylpentyl)monothio- phosphinic acid（二(2,4,4-三甲基戊基)硫代膦酸，简称Cyanex 302）、Di(2-ethylhexyl) phosphoric acid（简称D2EHPA）或Crown ether(冠醚)。

3.如权利要求1所述的受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法，其特征在于：该金属复合剂为Di(2-ethylhexyl) phosphoric acid。

4.如权利要求1所述的受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法，其特征在于：该辅助溶剂为低碳数烷类或低碳数醇类，其碳数为1至6个。

5.如权利要求4所述的受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法，其特征在于：该辅助溶剂为甲醇或正己烷。

6.如权利要求1、2、3、4或5所述的受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法，其特征在于：该容室内的压力为74 bar以上。

7.如权利要求1、2、3、4或5所述的受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法，其特征在于：该容室内的压力为100~350 bar。

8.如权利要求1、2、3、4或5所述的受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法，其特征在于：该容室内的温度为32℃以上。

9.如权利要求1、2、3、4或5所述的受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法，其特征在于：该容室内的温度为35~120℃。

10.如权利要求1、2、3、4或5所述的受金属或/与清洁剂污染的活性碳再生方法，其特征在于：该辅助溶剂占该去除剂的重量百分比为1.0~20.0%，该金属复合剂占该去除剂的重量百分比为0.1~9.0%，该超临界二氧化碳流体占该去除剂的重量百分比为79.9~98.9%。