[发明专利]光刻投影物镜

权利要求书

1.一种光刻投影物镜，把掩模的图像聚焦成像在基底上，从掩模开始包括沿着光轴依次设置的：

具有正光焦度的第一透镜组；

具有负光焦度的第二透镜组；

孔径光阑AS；

具有负光焦度的第三透镜组，相对于孔径光阑与第二透镜组对称；

具有正光焦度的第四透镜组，相对于孔径光阑与第一透镜组对称；

第一透镜组接收来自掩模的光线，包含五个光焦度依次为负、负、正、正、正的透镜，第一透镜和第二透镜组成具有负光焦度的子透镜组G1-1n；

第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，准直后出射至第三透镜组，第二透镜组包含四个光焦度依次为负、正、负、正的透镜，第二透镜和第三透镜组成具有负光焦度的子透镜组G2-1n。

2.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其中，光刻投影物镜的放大倍率为近似1x。

3.根据权利要求2所述的光刻投影物镜，其中，光刻投影物镜的带宽为400纳米到440纳米。

4.根据权利要求2所述的光刻投影物镜，其中，第一透镜组的第一透镜为双凹透镜，第二透镜为凹面面向掩模的弯月式透镜，第三透镜为第一面是非球面的双凸透镜, 第四透镜为凹面面向掩模的弯月透镜，第五透镜为凹面面向硅片的弯月透镜；第二透镜组的第一透镜是双凹透镜, 第二透镜是双凸透镜，第三透镜为第二个面为非球面的双凹透镜, 第四透镜是双凸透镜。

5.根据权利要求4所述的光刻投影物镜，其中，第一透镜组的所有透镜由相同的低色散材料构成；第二透镜组的第二透镜由低色散材料构成，第三透镜由高色散材料构成。

6.根据权利要求1-6中任意一个所述的光刻投影物镜，其中，

所述光刻投影物镜满足以下关系式：

-1.25<f₁/ f₂<-0.08                            (2－1)

1.65< f_G1-1n / f₁< -1.25           (2－2)

-12< f_el2/ f₁<-3.5                          (2－3)

-1.65< f_G1-1n / f₁< -1.25                    (2－4)

0.15< f_G2-1n / f₂< 0.55                       (2－5)

1.45< V_el56 / V_el57< 1.75                   (2－6)

0.8< V_el50 / V_el51< 1.25                        (2－7)

其中，f₁是第一透镜组的焦距，f₂是第二透镜组的焦距，f_G1-1n是第一透镜组的子透镜组 G1-1n的焦距，f_el2是第一透镜组中的第二透镜的焦距，f_G2-1n是第二透镜组的子透镜组G2-1n 的焦距，V_el56 和V_el57是第二透镜组的第二透镜和第三透镜的阿贝数，V_el50和V_el51：是第一透镜组的第一透镜和第二透镜的阿贝数。