[发明专利]含有脂环族环氧基的固化性树脂组合物、其制造方法及其固化物

说明书

技术领域

本发明涉及一种含有脂环族环氧基的固化性树脂组合物、其制造方法及其固化物，所述含有脂环族环氧基的固化性树脂组合物被用作：用于形成设置在电子部件上的绝缘膜、保护膜等的材料中所使用的放射线敏感性树脂，用于形成液晶显示材料(液晶显示用感光光阻、液晶显示用隔壁（rib）形成材料、保护涂层、滤色片形成用彩色光阻剂、TFT绝缘膜等)的液晶抗蚀剂用材料、涂料、涂覆剂、粘接剂等，所述电子部件有：半导体工艺中的使用远紫外线、电子束、离子束、X射线等活性光线的光刻及液晶显示元件、集成电路元件、固体摄像元件等。

背景技术

作为液态光致抗蚀剂(下文有时简称为“抗蚀剂”)中所使用的溶剂，目前已知有各种溶剂，可考虑到抗蚀剂树脂组合物的溶解性、涂布性、灵敏度、显影性、所形成的图案特性等，选择使用适当的溶剂(溶媒)。作为上述溶解性、涂布性、抗蚀剂形成特性等各特性优异的溶剂，已知有例如乙二醇单乙醚乙酸酯，但由于被指出对人体的安全性存在问题，因此，已完全不被用作抗蚀剂的溶剂，作为取而代之的安全性高的溶剂，已主要使用丙二醇单甲醚乙酸酯等(专利文献1~3等)。另外，作为安全性高的溶剂，除丙二醇单甲醚乙酸酯以外，也已知有乳酸乙酯及甲基正戊基酮等。

但是，对于被认为比乙二醇单乙醚乙酸酯安全性高的这些溶剂而言，存在抗蚀剂形成特性及树脂溶解性等特性不充分的问题。例如，对于丙二醇单甲醚乙酸酯而言，存在如下问题：将抗蚀剂涂布在基板上并进行成膜时，溶剂的残膜率(是指制膜后的膜中的溶剂残存率)高、线宽均匀性、显影时的抗蚀剂膜的密合性等降低。其原因可以列举如下：丙二醇单甲醚乙酸酯本身为蒸发速度快的溶剂，将其用作抗蚀剂树脂的溶剂时，仅在涂布表面进行蒸发，在表面形成所谓的被膜，因此，涂布面内部所包含的溶剂不易蒸发。另外，已知丙二醇单甲醚乙酸酯的树脂溶解性、引发剂溶解性等比乙二醇单乙醚乙酸酯差。另外，特别是将包含在侧链具备脂环族环氧基的共聚树脂的固化性树脂组合物长时间保存时，还存在组合物的经时稳定性低的问题。因此，正寻求一种安全性高，而且树脂溶解性、引发剂溶解性、树脂组合物的经时稳定性均优异的溶剂。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特公平3-1659号公报

专利文献2：日本特公平4-56973号公报

专利文献3：日本特公平4-49938号公报

发明内容

发明要解决的问题

因此，本发明的目的在于提供一种固化性树脂组合物、该固化性树脂组合物的制造方法以及将该固化性树脂组合物固化而得到的固化物，所述固化性树脂组合物含有在侧链含有脂环族环氧基的共聚树脂，安全性高、树脂溶解性等优异，同时经时稳定性优异。

本发明的其它的目的还在于提供一种固化性树脂组合物、该固化性树脂组合物的制造方法以及将该固化性树脂组合物固化而得到的固化物，所述固化性树脂组合物可形成膜厚均匀且对基板的密合性及耐溶剂性优异的涂膜(抗蚀剂膜等)。

解决问题的方法

本发明人等为了解决上述问题进行了深入研究，结果发现：包含共聚树脂和作为溶剂的二丙二醇二甲醚的固化性树脂组合物可以解决上述问题，从而完成了本发明，所述共聚树脂具有包含脂环族环氧基的结构单元、和包含碱可溶性基团的结构单元。

即，本发明提供一种固化性树脂组合物，其包含共聚物和溶剂，所述共聚物含有(A)含有脂环族环氧基的聚合性不饱和化合物所对应的单体单元、以及(B)含有碱可溶性基团的单体单元，所述溶剂含有占全部溶剂中的30~100质量%的二丙二醇二甲醚。

(A)含有脂环族环氧基的聚合性不饱和化合物可以为选自：3,4-环氧环己基甲基(甲基)丙烯酸酯、3,4-环氧三环[5.2.1.0^2.6]癸烷-8-基(甲基)丙烯酸酯、3,4-环氧三环[5.2.1.0^2.6]癸烷-9-基(甲基)丙烯酸酯中的至少一种化合物。

所述共聚物还可以含有(C)不含环氧基的脂环族聚合性不饱和化合物所对应的单体单元。

另外，本发明提供上述固化性树脂组合物的制造方法，其包含如下工序：(1)使用含有二丙二醇二甲醚的溶剂作为聚合溶剂来制造共聚物的工序；或(2)进行溶剂交换，将共聚物的溶剂交换成含有二丙二醇二甲醚的溶剂的工序。

进而，本发明还提供一种将所述固化性树脂组合物固化而得到的固化物。

发明效果