[发明专利]一种液晶阵列基板及其制造方法、修复方法

权利要求书

1.一种液晶阵列基板，包括由多个扫描线和多个数据线交叉限定的多个像素单元，每个像素单元内包括薄膜晶体管和像素电极，薄膜晶体管的栅极与扫描线连接，薄膜晶体管的源极与数据线连接，薄膜晶体管的漏极与像素电极连接，其特征在于：每个像素单元还包括：位于相邻两扫描线之间且与扫描线平行的公共电极线、以及与公共电极线连接且位于相邻两扫描线之间的遮光线，所述遮光线位于所述数据线的下方，所述像素电极覆盖所述遮光线与公共电极线。

2.根据权利要求1所述的液晶阵列基板，其特征在于：数据线和遮光线之间没有设置漏光区域。

3.根据权利要求1所述的液晶阵列基板，其特征在于：所述像素电极覆盖遮光线与公共电极线的区域有：像素电极与遮光线在数据线两侧具有重叠区域、以及像素电极与遮光线及公共电极线具有重叠区域。

4.根据权利要求3所述的液晶阵列基板，其特征在于：遮光线在数据线两侧伸出数据线至少2um的距离。

5.根据权利要求1所述的液晶阵列基板，其特征在于：所述扫描线、公共电极线及遮光线位于阵列基板的同一层。

6.根据权利要求1所述的液晶阵列基板，其特征在于：所述数据线、像素电极、以及遮光线三者均在不同层，且遮光线与数据线之间有绝缘层。

7.根据权利要求1-6任一所述阵列基板的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：在玻璃基板上形成扫描线、栅极、遮光线和公共电极线，公共电极线与遮光线连接；

步骤2：在形成步骤1的基板上，形成栅极绝缘层；

步骤3：在形成步骤2的基板上，形成有源层；

步骤4：在形成步骤3的基板上，形成位于遮光线上方的数据线、以及源漏极；

步骤5：在形成步骤4的基板上，形成保护层及形成接触孔；

步骤6：在形成步骤4的基板上，形成与接触孔连接且覆盖所述遮光线与公共电极线的像素电极。

8.根据权利要求7所述阵列基板的制造方法，其特征在于，在步骤6中，所述像素电极与遮光线在数据线两侧具有重叠区域。

9.根据权利要求1-6任一所述阵列基板的修复方法，当数据线与下方的遮光线之间具有短路点时，其特征在于，修复方法包括如下步骤：

将短路点上方的遮光线与上一个像素的扫描线之间空置区域的数据线切断、以及将短路点下方的公共电极线与扫描线之间空置区域的数据线切断；

通过修复线对切断后的数据线进行修复处理。

10.根据权利要求9所述阵列基板的修复方法，其特征在于：所述切断是用激光切断的。