[发明专利]一种自脆型放射性去污涂料的制备方法在审
申请号: | 201210201015.5 | 申请日: | 2012-06-18 |
公开(公告)号: | CN102690579A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 周元林;李银涛;谢长琼;李迎军 | 申请(专利权)人: | 西南科技大学 |
主分类号: | C09D133/12 | 分类号: | C09D133/12;C09D133/02;C09D5/20;C08F220/14;C08F220/06;C08F2/26;C08F2/30 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 放射性 去污 涂料 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及核污染去污技术领域,尤其涉及的是一种自脆型放射性去污涂料的制备方法。
背景技术
在核退役和各种核应急事故响应中,去除放射性核素污染都是关键问题。去污是指去除或减轻表面放射性污染的过程,去污的目的是为了降低设施和环境的放射性活度,以实现设施继续安全使用或进行场地开放。去污过程的实质是使放射性污染物从去污对象的表面转移到次生废物中。去污技术大部分是从其他技术领域中移植过来的,然后又根据放射性去污的工作特点(如辐射危害问题、再污染问题、要求的去污系数高等)加以改进发展。现在实际使用的去污过程大体可以分为两大类:物理去污和化学去污。传统的物理去污方法有擦拭、表层剥离等,化学去污为用化学溶剂(有机溶剂、酸液、络合物溶液、盐溶液等)清洗污染区域、设施等。这些去污方法取得了一定的效果解决了一些实际问题;但存在去污效果不理想或产生很多新的废物、废液等问题。目前,核设施去污已应用了多种现代的物理和化学手段,如超声、等离子体、激光、超临界技术、电化学方法等,就目前的各种去污技术而言,各种技术均存在一定的局限性。污染部件的基体材料、污染物种类、去污对象等,均对去污技术的选择有制约作用。因而在实际核设施运行或退役过程中,去污往往是多种技术的综合应用。
可剥离涂膜去污技术是新近发展起来的一种去污方法,它是指研制出一种具有剥离去污功能的新型材料,它在涂布之前,一般为液态型涂料,在涂布于受污染的设施、设备表面之后,经过一段时间的自然风干,在设施表面形成一层薄膜体,与一般的涂料所不同的是,所形成的这层涂料薄膜体可以再次通过机械或者人工操作,将其剥离设备表面,同时由于涂料在设备表面经历一系列化学和物理作用而将设备表面原有的污染物剔除或部分清除,最终经过一次或若干次操作,最终达到对受污染设备表面去污目的。一般意义上的可剥离去污涂料,是以含有官能团的一种或多种高分子聚合物为基体(各类橡胶、聚苯乙烯、聚氯乙烯、过氯乙烯等),并在其与溶剂的混合物中加入若中的功能型助剂,这包括:成膜助剂、乳化功能助剂、浸润剂、分散剂、功能型活性助剂、去污功能助剂等。该种去污技术施工方便,安全,无二次污染,产生废物可压缩焚烧,特别适用其他方法难于施工的场合,如巨大的核反应堆外壳,大型设备,工作大厅等都可以用喷涂的方法方便进行表面去污。这种方法的局限性在于它对多孔性粗糙物件、复杂结构部件去污效果较差,同时在剥膜的过程中会对操作人员产生一定辐照剂量。
发明内容
本发明旨在制备一种放射性去污涂料,在涂覆于受污染对象表面后,其固化成膜后能自行脆裂剥离,同时达到去污的目的。这种新型去污涂料可用于多孔性粗糙物件、复杂结构部件表面去污,同时其产生的废物(脆片)可机械收集,减少操作人员的受辐照剂量。
本发明的技术方案如下:
一种自脆型放射性去污涂料的制备方法,量取聚合物乳液,用NaOH溶液调节PH值为7.5~9.0,搅拌15~30分钟,加入聚合物交联剂,搅拌15~30分钟,密封静置12小时,即得去污涂料;其中聚合物交联剂的体积为聚合物乳液体积的15~25%。
所述的制备方法,所述聚合物乳液的制备方法为,以合成的聚合物乳液总质量为100份计:
A:制备单体预乳化物:将十二烷基苯磺酸钠(SDBS)和脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO-7)加入烧杯中,再加入去离子水,搅拌使十二烷基苯磺酸钠和脂肪醇聚氧乙烯醚完全溶解后,加入甲基丙烯酸甲酯(MMA)和甲基丙烯酸(MAA),并强力搅拌形成稳定的单体预乳化物;单体1即甲基丙烯酸甲酯(MMA)用量:5~7.5份;单体2即甲基丙烯酸(MAA)用量:2.5~7.5份;单体1与单体2质量比在1∶1至3∶1,两者总质量份数在10~15份;十二烷基苯磺酸钠(SDBS):0.02~0.06份,用量为单体总质量的0.2~0.4%;脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO-7):0.08~0.24份,用量为单体总质量的0.8~1.6%;去离子水:4~7.5份,用量为单体总质量的40~50%;
B:制备引发剂溶液:将过硫酸钾(K2S2O8)加入烧杯中,再加入去离子水搅拌使其完全溶解,形成引发剂溶液;引发剂用量:0.05~0.15份,引发剂用量为单体总质量的0.5~1.0%;去离子水用量为引发剂质量90~100倍;
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