[发明专利]一种用掩模板制作大版导光片的方法

权利要求书

1.一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：包括以下步骤：

1）、设计掩模板：掩模板含有多个区域掩模板图案；区域掩模板图案中含有透光开口和阻光部分，或阻光开口和透光部分组成的掩模板图案；至少一个区域掩模板图案中，透光开口或阻光图案的位置随机或按设定规律分布,透光开口或阻光图案的密度沿至少一个方向逐渐变化；掩模板包含一衬底基片，衬底基片为高平整度的玻璃，通过溅射或蒸发的方式在玻璃表面淀积一金属铬层，在铬层上涂上光学光刻胶或电子束光刻胶，按设计图案，对光刻胶通过光学或电子束方式进行曝光，再经过蚀刻，得到含有透光开口和阻光部分或阻光图案和透光部分组成的多个区域掩模板图案的掩模板；

2）、制作大版导光片：将可光聚合材料混合物涂布在大版导光片基片上，形成涂层，并将涂布有可光聚合材料混合物的大版导光片基片放置于步骤1）的掩模板上；使用准直或接近准直的能量辐射，通过掩模板的透光开口或透光部分，选择性地使涂层中可光聚合混合物聚合，并形成固体结构；使用溶剂：甲醇、丙酮、异丙醇或水，洗涤可光聚合混合物涂层，除去涂层中未聚合的部分，在大版导光片基片上形成与所述掩模板区域掩模板图案中透光开口或阻光图案及采用的材料混合物相对应的凸起或凹陷的微结构，构成含有多个单元导光片的大版导光片；通过分割，得到多个分立单元导光片。

2.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤1）中掩模板为柔性掩模板，柔性掩模板包含一聚酯基层、乳剂层、粘结层和保护层。

3.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤1）中的区域掩模板图案包含边线为非直线形状的透光开口或阻光图案，透光开口或阻光图案为非直线形状的边线为圆形或椭圆形。

4.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤1）中的区域掩模板图案包含矩形的透光开口或阻光图案，矩形透光开口或阻光图案的取向按设定方向分布或在一定角度范围内随机或按设定规律分布。

5.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤1）中的区域掩模板图案进一步包含第二较小区域，第二较小区域包含与第一较小区域掩模板图案不同形状、大小、取向或位置分布的透光开口或阻光图案。

6.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤1）中的掩模板图案中包含隔开区域掩模板图案的区域间隙。

7.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤2）中大版导光片通过分割而得到的分立单元导光片的至少一个断面或可进一步经过抛光处理。

8.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤2）中的大版导光片基片为聚碳酸脂（PC）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚乙烯醇（PVA）或聚对苯二甲酸（PET）中的一种，所述的可光聚合材料混合物包含丙烯酸树脂、聚酯树脂、聚氨酯、聚氯乙烯或硅树脂。

9.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤2）中的单元导光片包含凸起或凹陷的微结构，凸起或凹陷的微结构具有非平面状的弯曲表面，并且没有明显的分界线来区分各个侧面，微结构的非平面状弯曲表面可为球面、椭球面、抛物面或其他合适的弯曲表面。

10.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤2）中的单元导光片包含截面为三角形的凸起或凹陷微棱镜，凸起或凹陷的微棱镜的长边方向与Y方向一致，或在一定的角度范围随机或按设定的规律分布。

11.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤2）中单元导光片包含与第一微结构区域不同形状、大小、取向、表面特征或位置分布的第二微结构区域。

12.根据权利要求1所述的一种用掩模板制作大版导光片的方法，其特征在于：所述的步骤2）中大版导光片含有区域间隙，用以隔开大版导光片中与单元导光片相应的微结构区域。