[发明专利]柔性透明导电薄膜及其制造方法和触控面板

权利要求书

1.一种柔性透明导电薄膜，其包括柔性基材和透明导电氧化物层，所述柔性基材具有相对的第一表面和第二表面，其特征在于，所述柔性基材的第一表面由内到外依次叠设有第一硬涂层、第一层底涂层、第二层底涂层，所述透明导电氧化物层设于所述第二层底涂层上。

2.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜，其特征在于，所述柔性基材的第二表面具有第二硬涂层。

3.如权利要求2所述的柔性透明导电薄膜，其特征在于，所述柔性基材为PET聚酯薄膜，所述柔性基材的厚度为50～188微米。

4.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜，其特征在于，所述第一层底涂层、第二层底涂层的折射率分别为1.9～2.3和1.3～1.6。

5.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜，其特征在于，所述第一层底涂层、第二层底涂层的几何厚度分别为2～20纳米和20～100纳米。

6.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜，其特征在于，所述第一层底涂层和第二层底涂层分别用金属靶材中频反应磁控溅射技术制备而成，所述透明导电微晶态铟锡氧化物层是用铟锡氧化物陶瓷靶材采用中频反应磁控溅射技术制备的。

7.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜，其特征在于，所述透明导电氧化物层为透明导电微晶态铟锡氧化物层，所述透明导电微晶态铟锡氧化物层的几何厚度为15～30纳米，表面电阻是150Ω /□～250Ω /□。

8.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜，其特征在于，所述第一硬涂层和第二硬涂层的厚度在3～5微米之间。

9.一种如权利要求1-8任一所述的柔性透明导电薄膜的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一个柔性基材，所述柔性基材具有相对的第一表面和第二表面；

在所述柔性基材的第一表面涂覆第一硬涂层；

在所述第一硬涂层表面由内到外采用中频反应磁控溅射方法依次连续沉积，一次性形成第一层底涂层、第二层底涂层、透明导电氧化物层，所述第一层底涂层、第二层底涂层、透明导电氧化物层中各层采用独立的空间进行制备，形成所述柔性透明导电薄膜。

10.一种触控面板，其包括如权利要求1-8任一项所述的柔性透明导电薄膜。