[发明专利]太阳能电池以及该太阳能电池的接触层的制备方法有效
申请号: | 201210210953.1 | 申请日: | 2008-07-08 |
公开(公告)号: | CN102709341A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 史蒂夫·S.·基姆;贾拉尔·萨拉米;斯里尼瓦桑·斯里德哈兰;阿齐兹·S.·谢克 | 申请(专利权)人: | 费罗公司 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/18;H01B1/16 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶;於毓桢 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能电池 以及 接触 制备 方法 | ||
本专利申请为申请日为2008年7月8日、申请号为200880023939.2、名称为“含铝、和硼、钛、镍、锡、银、镓、锌、铟及铜中的至少一种的太阳能电池接触层”的专利申请的分案申请。
本专利申请涉及提交于2007年7月9日的第11/774,632号美国专利申请,所述美国专利申请为共同拥有的、同时待审的、提交于2006年3月20日的第11/384,838号美国专利申请的部分继续申请,这两个专利申请的公开内容在此以引用方式并入本文。
发明领域
本发明涉及导电制备物(formulation),所述导电制备物由以下物质来制成:铝颗粒;其它金属源;无机添加剂;以及分散于有机体系的玻璃料;所述金属包含硼、钛、镍、锡、银、镓、锌、铟以及铜中的至少一种。所述制备物通常可进行丝网印刷并且适用于制造光电装置。通过适当的有机物改性,这些制备物也可通过其它方法来施加,例如喷雾、热熔印刷、喷墨印刷、移印、微细笔写(micro-pen writing)以及带式层压技术。
发明背景
太阳能电池通常由例如硅(Si)等半导体材料制成,其将太阳光转化为有用的电能。太阳能电池通常由薄的Si晶片制成,在所述Si晶片中,通过将来自合适磷源的磷(P)扩散入p型Si晶片中,从而形成所需要的PN结。在硅晶片上太阳光入射的一侧通常涂覆有抗反射涂层(ARC),以防止太阳光的反射损失。这ARC提高太阳能电池的效率。称为前接触层的二维电极栅状图形(two dimensional electrode grid pattern)连接于硅的n侧,而主要为铝(Al)的涂层连接于所述硅的p侧(背接触层)。进一步,将称为银后接触层的接触层(由银或银-铝膏制成)印刷并烧成于硅的p侧,使得能够进行接头的焊接,该接头在太阳能电池模块中将一个电池电连接于下一个。这些接触层是从PN结到外部负载的电输出口。
用于太阳能电池接触层的常规膏中包含铅玻璃料。在太阳能电池膏的玻璃组分中包含PbO,产生如下理想效果:(a)降低膏组合物的烧成温度,(b)促进与硅基底的相互作用,并通过烧成而有助于与硅形成低电阻接触层。由于这些原因和其它原因,PbO成为许多常规太阳能电池膏组合物中的重要组分。然而,从环境方面考虑,现在要尽可能避免在膏组合物中使用PbO(以及CdO)。因此在光电工业中需要开发出无铅的和无镉膏组合物,其通过在太阳能电池接触层膏中施加无铅的和无镉的玻璃来提供理想性能。
目前,典型的太阳能电池硅晶片为约200-300微米厚,并且倾向开发出更薄的晶片。由于晶片成本占到电池制造成本的约60%,工业上在寻求更薄的晶片,接近150微米。随着晶片厚度减小,电池由于烧结应力增大而倾向发生弯曲(bowing,bending),并且铝(232×10-7/°C20-300°C)和硅(26×10-7/°C20-300°C)之间的热膨胀系数(TCE)的巨大差异也会诱发弯曲。
已知的减轻硅晶片弯曲的方法包括在丝网印刷时降低铝含量的方法,但这导致背表面场(Back Surface Field,BSF)层的形成不完全,并且必需更高的烧成温度来达到相同结果。化学制品(酸)蚀刻法已被用于去除在烧成铝膏后形成的Al-Si合金。这正是制备方法中的另一个导致额外成本的步骤。
另一个途径是使用添加剂来降低Al层和硅晶片之间的热膨胀不匹配。然而,缺点在于降低了背表面钝化质量以及伴随着降低了太阳能电池性能。部分覆盖,即晶片背侧的部分区域被铝涂覆,已被用于背表面来抵消弯曲,但这导致电池性能降低。
最后,另一个降低或消除弯曲的常规办法为在烧成后将成品的太阳能电池从室温冷却至大约-50°C达几秒。结合一同采用的对Al-Si膏基质的塑性变形,极大地消除了弯曲,但是这带来额外的工艺步骤,并且具有起因于热应力的高破损危险性。
因此在光电工业中需要开发出:低弯曲、无铅、高性能的、可在太阳能电池接触层产生足够的铝背表面场的Al膏,这样的接触层的制造方法,以及形成这样的BSF的Al膏。
发明概述
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于费罗公司,未经费罗公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210210953.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的