[发明专利]一种金属标牌的蚀刻方法无效
| 申请号： | 201210211833.3 | 申请日： | 2012-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN102747366A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 张复兴 | 申请（专利权）人： | 昆山世铭金属塑料制品有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215345 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 金属 标牌 蚀刻 方法 | ||
1.一种金属标牌的蚀刻方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供基板并对所述基板进行表面处理；
涂布感光材料于经过表面处理的所述基板的正面及背面；
曝光经涂布的所述基板的正面及背面；
显影经曝光的所述基板；
贴覆转帖膜于经显影的所述基板的背面；
蚀刻背面贴覆有所述转帖膜的所述基板的正面；
贴覆所述转帖膜于经蚀刻的所述基板的正面；
对贴覆有所述转帖膜的所述基板的背面进行脱膜；
蚀刻经脱膜的所述基板的背面；以及
对贴覆有所述转帖膜的所述基板的正面进行脱膜。
2.如权利要求1所述的金属标牌的蚀刻方法，其特征在于，在170～220℃温度范围内涂布所述感光材料于所述基板上，并且涂布的速度为1.2～1.5M/min。
3.如权利要求1所述的金属标牌的蚀刻方法，其特征在于，曝光经涂布的所述基板时的台面温度为18～25℃。
4.如权利要求1所述的金属标牌的蚀刻方法，其特征在于，采用氢氧化钠溶液或阳图版显影液DP-4显影所述基板，对完成显影的所述基板进行加热干燥，干燥温度为200～220℃。
5.如权利要求4所述的金属标牌的蚀刻方法，其特征在于，所述阳图版显影液DP-4中的DP-4与水的体积比为1∶10～1∶8。
6.如权利要求1所述的金属标牌的蚀刻方法，其特征在于，所述转帖膜的耐酸度为8～12％，所述转帖膜的耐碱度为8～12％，所述转帖膜的粘度为3～7。
7.如权利要求1至6任一项所述的金属标牌的蚀刻方法，其特征在于，蚀刻所述基板的正面至所述基板厚度的1/4～3/4。
8.如权利要求7所述的金属标牌的蚀刻方法，其特征在于，蚀刻背面贴覆有所述转帖膜的所述基板的正面至所述基板厚度的1/2。
9.如权利要求8所述的金属标牌的蚀刻方法，其特征在于，蚀刻经脱膜的所述基板的背面至与所述基板的正面贯通。
10.如权利要求9所述的金属标牌的蚀刻方法，其特征在于，通过氯化铁溶液进行蚀刻，以质量百分比计算，所述氯化铁溶液的浓度为32～40％。
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