[发明专利]一种磁电复合多态存储器单元及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210212556.8 申请日: 2012-06-21
公开(公告)号: CN102768854A 公开(公告)日: 2012-11-07
发明(设计)人: 李扩社;胡权霞;彭海军;张洪滨;李红卫;于敦波;谢佳君;李廷先;严辉 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院;有研稀土新材料股份有限公司
主分类号: G11C13/02 分类号: G11C13/02;H01L43/00;H01L43/12
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 程凤儒
地址: 100088 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁电 复合 存储器 单元 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种磁电复合多态存储器单元,其特征在于,包括在衬底上依次复合的底电极、铁电层和顶电极,所述底电极和顶电极均为材料为La1-xSrxMnMyO3的铁磁层,其中0.15≤x≤0.5,0≤y≤0.1,M为Ag、Bi、Cu、Co、Ni和Sc元素中的至少一种;所述铁电层的材料为BaTiO3;所述铁磁层与铁电层的材料均具有(110)取向;所述铁磁层与铁电层的厚度比为0.1~20。

2.一种磁电复合多态存储器单元,其特征在于,包括在衬底上依次复合的底电极、铁电层和顶电极,所述底电极为材料为La1-xSrxMnMyO3的铁磁层,其中0.15≤x≤0.5,0≤y≤0.1,M为Ag、Bi、Cu、Co、Ni和Sc元素中的至少一种;所述铁电层的材料为BaTiO3;所述顶电极为材料为Ag、Au、Pt、Cu或Al的薄膜层;所述铁磁层与铁电层的材料均具有(110)取向;所述铁磁层与铁电层的厚度比为0.1~20。

3.根据权利要求1或2所述的磁电复合多态存储器单元,其特征在于,所述铁磁层与铁电层的材料均具有钙钛矿结构。

4.根据权利要求1或2所述的磁电复合多态存储器单元,其特征在于:所述铁磁层的内禀矫顽力2.5kA/m≤Hcj≤40kA/m。

5.根据权利要求1或2所述的磁电复合多态存储器单元,其特征在于:所述铁磁层与铁电层的厚度比2.1~5。

6.根据权利要求1或2所述的磁电复合多态存储器单元,其特征在于:所述铁磁层与铁电层的总厚度小于1μm。

7.根据权利要求1或2所述的磁电复合多态存储器单元,其特征在于:所述铁电层的相对介电常数为50~800。

8.根据权利要求7所述的磁电复合多态存储器单元,其特征在于:所述铁电层的相对介电常数为150~300。

9.根据权利要求1或2所述的磁电复合多态存储器单元,其特征在于:所述衬底材料为LaAlO3、SrTiO3或(La1-xSrx)(Al1-yTay)O3的(110)取向单晶,其中0.15≤x≤0.5,0.15≤y≤0.5。

10.一种权利要求1所述的磁电复合多态存储器单元的制备方法,其特征在于包括如下步骤:

于600-800℃下在衬底上依次沉积铁磁层薄膜、铁电层薄膜与铁磁层薄膜,然后在氧气气氛中于700-860℃热处理30-120min。

11.一种权利要求2所述的磁电复合多态存储器单元的制备方法,其特征在于包括如下步骤:

于600-800℃下在衬底上依次沉积铁磁层薄膜与铁电层薄膜,然后在氧气气氛中于700-860℃热处理30-120min;再在铁电层表面沉积顶电极薄膜。

12.根据权利要求10或11所述的制备方法,其特征在于:所述的沉积方法为磁控溅射、脉冲激光沉积、离子束溅射或离子镀。

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