[发明专利]EDI装置可单独反洗的纯水设备

说明书

技术领域

本发明涉及太阳能硅电池片生产领域，尤其涉及对硅片进行浸泡、清洗的溶液的水处理设备。

背景技术

自来水中常含有钠、钙、镁、氯、硝酸盐、矽等溶解盐。这些盐是由负电离子（负离子）和正电离子（正离子）组成。自来水也含有微量金属，溶解的气体（如CO2）和其他必须在工业处理中去除的弱离子化的化合物（如矽和硼）。通常采用EDI（Electrodeionization，连续电解除盐技术）技术来进行水处理，使处理后的溶液符合硅片的生产需要。

技术介绍：原水箱—原水增压泵—石英砂过滤器—活性碳过滤器—絮凝剂加药系统—保安过滤器—中间水箱—高压泵1—阻垢剂加药系统—一级RO反渗透系统—一级RO水箱—高压泵11—氢氧化钠加药系统—二级反渗透系统—二级RO水箱—ERI输送泵—精密过滤器—EDI模块—紫外杀菌器---超纯水箱—TOC有机碳去除器—纯水输送泵—抛光混床—精密过滤器—车间

由于现有的EDI纯水处理设备中EDI装置和管道采用串联的方式连接，当EDI模块电阻值下降时只能几组全部停产维修，从而影响生产进度。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种EDI装置可单独反洗的纯水设备，当某组EDI装置需要反洗时不影响其它且EDI装置。

本发明的目的是这样实现的：EDI装置可单独反洗的纯水设备，包括EDI清洗箱、清洗水泵、高纯水箱、氮化水箱和至少两组EDI装置，高纯水箱的出水口连接高纯水总管，高纯水总管与各EDI装置的第一进水口之间通过高纯水分管连接，每根高纯水分管上分别连接浓水进水阀；所述EDI清洗箱的出水口与清洗水泵的进水口通过送水管连接，送水管上连接送水阀；每组EDI装置的第一出水口分别连接氮化分水管，每根氮化分水管上分别连接产水阀，每根氮化分水管的出水口分别连接同一根氮化总水管，氮化总水管的出水口与氮化水箱连接；所述清洗水泵的出水口连接清洗总进水管，每组EDI装置的第二进水口分别通过清洗分进水管与清洗总进水管连接，每根清洗分进水管上分别连接上阀门；每组EDI装置的第二出水口分别连接浓水管，每根浓水管上分别连接浓水补充阀，每根浓水管的出水口分别连接同一清洗总出水管，清洗总出水管的出水口与EDI清洗箱的进水口连接；每组EDI装置的第三出水口分别连接清洗分出水管，每根清洗分出水管上分别连接下阀门，每根清洗分出水管的出水口分别与清洗总出水管连接。

本发明的清洗总出水管上还连接与EDI装置数量相等的废水分管，每根废水分管上分别连接浓水排水阀，每根废水分管的出水口分别连接同一废水总管。

本发明通过以上设计，几组EDI装置采用并联的连接方式，在不影响车间生产时，可对纯水设备EDI装置单个进行反洗，从而不影响其它组EDI装置，保证了车间正常生产，提高工作效率。

附图说明

图1为本发明的一种结构示意图。

图中，1EDI清洗箱，2送水管，3送水阀，4清洗水泵，5清洗总进水管，6上阀门，7清洗分进水管，8EDI装置，9清洗分出水管，10下阀门，11浓水补充阀，12浓水管，13浓水排水阀，14废水分管，15产水阀，16氮化分水管，17清洗总出水管，18废水总管，19氮化总水管，20氮化水箱，21高纯水箱，22高纯水总管，23高纯水分管，24浓水进水阀。

具体实施方式

如图1所示，为EDI装置可单独反洗的纯水设备，包括EDI清洗箱1、清洗水泵4、高纯水箱21、氮化水箱20和四组EDI装置8，高纯水箱21的出水口连接高纯水总管22，高纯水总管22与各EDI装置8的第一进水口之间通过高纯水分管23连接，每根高纯水分管23上分别连接浓水进水阀24。EDI清洗箱1的出水口与清洗水泵4的进水口通过送水管2连接，送水管2上连接送水阀3，清洗水泵4的出水口连接清洗总进水管5，各EDI装置8分别设置在清洗总进水管5的下方，每组EDI装置8的第二进水口分别通过清洗分进水管7与清洗总进水管5连接，每根清洗分进水管7上分别连接上阀门6，每组EDI装置8的第一出水口分别连接氮化分水管16，每根氮化分水管16上分别连接产水阀15，每根氮化分水管16的出水口分别连接同一根氮化总水管19，氮化总水管19的出水口与氮化水箱20连接。每组EDI装置8的第二出水口分别连接浓水管12，每根浓水管12上分别连接浓水补充阀11，每根浓水管12的出水口分别连接同一清洗总出水管17，清洗总出水管17的出水口与EDI清洗箱1的进水口连接。每组EDI装置8的第三出水口分别连接清洗分出水管9，每根清洗分出水管9上分别连接下阀门10，每根清洗分出水管9的出水口分别与清洗总出水管17连接。清洗总出水管17上还连接四根废水分管14，每根废水分管14上分别连接浓水排水阀13，每根废水分管14的出水口分别连接同一废水总管18。