[发明专利]一种调控硅表面太阳能吸收率的方法有效
申请号: | 201210216121.0 | 申请日: | 2012-06-28 |
公开(公告)号: | CN102983180A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 程强;卢佳;李萍萍;周怀春 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/0232 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 调控 表面 太阳能 吸收率 方法 | ||
1. 一种调控硅表面太阳能吸收率的方法,其特征在于,该方法是硅表面采用周期性凹形阶梯式亚波长光栅结构。
2.根据权利要求1所述的调控硅表面太阳能吸收率的方法,其特征在于,所述凹形阶梯式光栅结构由光栅单元阵列组成,每个光栅单元由至少二个光栅组成,各光栅的凹槽深度逐渐递减或者递增,光栅顶部保持水平。
3.根据权利要求2所述的调控硅表面太阳能吸收率的方法,其特征在于,各光栅单元中,相邻二个光栅的凹槽深度之差基本相等。
4.根据权利要求1、2或3所述的调控硅表面太阳能吸收率的方法,其特征在于,在所述光栅结构中,f/Λ为0.571至0.714,f为光栅结构的脊背的宽度,Λ为光栅的周期长度。
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