[发明专利]干涉滤波器和显示设备无效

专利信息
申请号: 201210216133.3 申请日: 2012-06-27
公开(公告)号: CN103033866A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 永户一志;宫崎崇;中井丰;山口一 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02F1/1335
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张欣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 干涉 滤波器 显示 设备
【权利要求书】:

1.一种干涉滤波器,包括:

包含主表面的基体;

设置在所述主表面上的下侧半透射层;以及

设置在所述下侧半透射层上的上侧半透射层,

所述基体、所述下侧半透射层和所述上侧半透射层形成第一区域以选择性透射蓝光、形成第二区域以选择性透射绿光、并且形成第三区域以选择性透射红光,所述第一区域、所述第二区域、和所述第三区域被配置在与所述主表面平行的平面中,且

所述第二区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离短于所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离,且短于所述第三区域中所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离。

2.如权利要求1所述的滤波器,其特征在于,所述第三区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离短于所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离。

3.如权利要求1所述的滤波器,其特征在于,所述第二区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离为零。

4.如权利要求3所述的滤波器,其特征在于,所述第三区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离为大于等于10.8纳米且小于等于13.2纳米。

5.如权利要求4所述的滤波器,其特征在于,所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间的距离为大于等于76纳米且小于等于84纳米。

6.如权利要求1所述的滤波器,其特征在于,还包括:

第一间隔层,被设置在所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间;以及

第三间隔层,被设置在所述第三区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间。

7.如权利要求1所述的滤波器,其特征在于,还包括:

第一间隔层,被设置在所述第一区域中的所述下侧半透射层和所述上侧半透射层之间,

所述第一区域中的所述距离和所述第一间隔层的折射率的乘积为大于等于105.8纳米并小于117.5纳米。

8.如权利要求1所述的滤波器,其特征在于,

所述基体、所述下侧半透射层、和所述上侧半透射层形成了多个所述第一区域、多个所述第二区域、和多个所述第三区域,且

所述多个第一区域、所述多个第二区域、和所述多个第三区域被沿着所述平面中的至少一个方向而周期性设置。

9.如权利要求1所述的滤波器,其特征在于,所述下侧半透射层包括:

第一介电膜;以及

第二介电膜,其与所述第一介电膜层叠且具有与所述第一介电膜的折射率不同的折射率。

10.如权利要求9所述的滤波器,其特征在于,

所述第一介电膜包括TiO2,且

所述第二介电膜包括SiO2

11.如权利要求9所述的滤波器,其特征在于,所述上侧半透射层包括:

第三介电膜;

第四介电膜,其与所述第三介电膜层叠且具有与所述第三介电膜的折射率不同的折射率。

12.如权利要求9所述的滤波器,其特征在于,

在所述下侧半透射层中设置有多个所述第一介电膜和所述第二介电膜,且所述多个第一介电膜和所述多个第二介电膜被交替层叠。

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