[发明专利]介质处理装置有效

专利信息
申请号: 201210216527.9 申请日: 2012-06-27
公开(公告)号: CN102867358A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 佐佐木俊幸;水山昭吾 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G07D11/00 分类号: G07D11/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 介质 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种介质处理装置,其特征在于,具有:

装置框体,其具备介质插入口及介质排出口;

介质输送路,其形成于所述装置框体,在将所述装置框体以正立状态置于平面上的情况下,将与所述平面平行的一个方向设为装置前后方向,将与所述平面平行且与所述装置前后方向正交的方向设为装置宽度方向,将与所述平面正交的方向设为装置上下方向的方向规定前提下,将从所述介质插入口插入的第一介质从所述装置前后方向的前方朝向后方引导后从所述装置前后方向的后方朝向前方引导而引导至所述介质排出口;

直线状输送路,其与所述介质输送路中的所述介质插入口或所述介质排出口相连;

直线状的第二介质插入路,其在所述装置框体中的朝向所述装置上下方向的上方的装置上表面部分,从所述介质插入口或所述介质排出口沿着所述直线状输送路的延长线朝向所述装置前后方向的前方延伸,以将第二介质从所述介质插入口向所述直线状输送路内插入或将第二介质从所述介质排出口向所述直线状输送路外排出;

光学式读取部,其从通过所述直线状输送路的介质读取图像,

所述直线状输送路及所述第二介质插入路沿着如下方向延伸,所述方向是指沿着所述装置前后方向的方向或相对于该装置前后方向以锐角倾斜的方向,

从所述介质插入口插入的所述第一介质的插入方向或从所述介质排出口排出的所述第一介质的排出方向为与所述第二介质插入路不同的方向,且为沿着所述装置前后方向的方向或相对于该装置前后方向以锐角倾斜的方向。

2.根据权利要求1所述的介质处理装置,其特征在于,

从所述介质插入口插入的所述第一介质的插入方向或从所述介质排出口排出的所述第一介质的排出方向为沿着所述装置前后方向的方向,

所述直线状输送路及所述第二介质插入路相对于沿着所述装置前后方向的方向为朝向所述装置前后方向的前方且向所述装置宽度方向的内侧以锐角倾斜的方向。

3.根据权利要求1或2所述的介质处理装置,其特征在于,

所述介质输送路具备从所述直线状输送路的所述装置前后方向的后方侧的端部沿所述装置宽度方向弯曲延伸的输送路部分,

在所述直线状输送路的所述后方侧的端部形成有沿着该直线状输送路的向所述装置前后方向的后方延长的延长线呈直线状延伸的延长路,该延长路的所述装置前后方向的后方侧的端部向所述装置前后方向的后方开口。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的介质处理装置,其特征在于,

所述直线状输送路为与所述介质输送路中的所述介质排出口相连的输送路,

所述介质处理装置具有将从所述介质排出口排出的第一介质进行回收的回收凹处,

所述第二介质插入路配置在相对于所述回收凹处的所述装置宽度方向上的内侧,

所述回收凹处在沿着所述装置前后方向的方向上延伸,

所述直线状输送路及所述第二介质插入路相对于沿着所述装置前后方向的方向为朝向所述装置前后方向的前方且向所述装置宽度方向的内侧以锐角倾斜的方向。

5.根据权利要求4所述的介质处理装置,其特征在于,

所述介质输送路的所述直线状输送路的底面由向所述装置上下方向的上方开口的规定深度的槽来规定,

所述回收凹处由具备位于与所述直线状输送路的槽底面相同高度位置处的底面且向装置上方开口的凹部来规定,

所述第二介质插入路的底面位于所述直线状输送路的从所述槽底面至向所述装置上下方向的上方开口的槽上端开口之间的高度位置处,

从所述第二介质插入路向所述直线状输送路插入的第二介质在该直线状输送路内以与所述第二介质插入路的底面相同高度位置的状态输送。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的介质处理装置,其特征在于,具有:磁读取部,其读取在所述介质输送路中输送的第一介质的磁性信息;介质打印部,其对在所述介质输送路中输送的第一介质进行打印,所述介质输送路为支票输送路,

所述第二介质插入路为卡插入路。

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