[发明专利]一种声表面波气体传感器多层敏感膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210225320.8 申请日: 2012-06-29
公开(公告)号: CN102735753A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 李冬梅;陈鑫;梁圣法;詹爽;谢常青;刘明 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01N29/036 分类号: G01N29/036;G01N29/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面波 气体 传感器 多层 敏感 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种声表面波气体传感器多层敏感膜的制备方法,用于检测NH3和NO2气体,其特征在于,包括:

选择一压电基片,在该压电基片表面涂敷光刻胶,对该压电基片表面进行光刻,露出该压电基片表面的敏感膜区域;

采用MPS溶液和PAH溶液对覆盖有光刻胶并露出敏感膜区域的该压电基片进行处理;

将处理后的该压电基片依次浸入PSS、PPy、PSS和PANI溶液中,在该压电基片上生长一层PPy/PSS/PANI复合敏感膜,重复该浸入步骤并控制重复次数,在该压电基片上得到不同层数不同厚度的PPy/PSS/PANI复合敏感膜;以及

去除该压电基片表面的光刻胶及光刻胶上生长的PPy/PSS/PANI复合敏感膜,并封装。

2.根据权利要求1所述的声表面波气体传感器多层敏感膜的制备方法,其特征在于,所述压电基片选用石英基片,利用该基片的压电效应使其在插值换能器激励下激发声表面波。

3.根据权利要求1所述的声表面波气体传感器多层敏感膜的制备方法,其特征在于,所述采用MPS溶液和PAH溶液对覆盖有光刻胶并露出敏感膜区域的该压电基片进行处理,包括:

将该压电基片浸入2mg/ml的3-Mercapto-1-propanesulfonic acid sodium salt(MPS)溶液中2小时,去离子水清洗吹干后再将该压电基片浸入到pH为4的10mg/ml的poly allylamine hydrochloride(PAH)溶液中10分钟,并用去离子水清洗并吹干。

4.根据权利要求1所述的声表面波气体传感器多层敏感膜的制备方法,其特征在于,所述将处理后的该压电基片依次浸入PSS、PPy、PSS和PANI溶液中,在该压电基片上生长一层PPy/PSS/PANI复合敏感膜,具体包括:

将处理后的该压电基片浸入10mg/ml的聚阴离子(poly styrene sulfonic acid sodium salt,PSS)溶液中10分钟使其表面吸附一层PSS,用去离子水冲洗掉粘附性比较差的基团并吹干;然后将该压电基片浸入0.006M的FeCl3、0.026M的p-toluene sulfonic acid(p-TSA)和0.02M的pyrrole的搅拌反应15分钟并过滤好的溶液中10分钟在PSS上自组装一层Polypyrrole(PPy),用去离子水冲洗掉粘附性比较差的基团并吹干;然后将该压电基片再次浸入PSS溶液中10分钟,用去离子清洗吹干后接着将该压电基片浸入pH为2.8的20mg/ml的翠绿亚胺基的Polyaniline(PANI)的dimethyl acetamide(DMAc)溶液中10分钟,则在该压电基片上生长了一层PPy/PSS/PANI复合敏感膜。

5.根据权利要求4所述的声表面波气体传感器多层敏感膜的制备方法,其特征在于,所述用去离子水冲洗掉粘附性比较差的基团并吹干,用于提高膜的均匀性和粘附性。

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