[发明专利]一种纳米材料混合基质膜的制备方法

权利要求书

1.一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，包括两个步骤：

步骤一、制备植入纳米材料的微孔中间层；

步骤二、在已植入纳米材料的微孔中间层表面制备过滤皮层。

2.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的纳米材料包括氧化铝、二氧化钛、氧化锆、二氧化硅、银、碳纳米管或沸石中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述纳米材料的平均粒径在0.01-1微米之间。

4.据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述纳米材料的平均粒径在0.01-0.2微米之间。

5.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的微孔中间层包括有机高分子材料，有机高分子材料包括聚砜PSf、聚醚砜PES、聚偏二氟乙烯PVDF、聚氯乙烯PVC、聚丙烯腈PAN、聚酰胺PA、聚酰亚胺PI、聚醚酰亚胺PEI及其共聚物中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述步骤一是在制备微孔中间层的同时将纳米材料原位植入微孔中间层表面的。

7.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述步骤一是先制备微孔中间层，之后将纳米材料溶液均匀涂布于微孔中间层表面实现植入。

8.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述步骤一是先制备微孔中间层，之后将纳米材料利用静电作用吸附于微孔中间层表面实现植入。

9.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述步骤一是先制备微孔中间层，之后将纳米材料直接喷射于微孔中间层表面实现植入。

10.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，微孔中间层的平均孔径在0.005-1微米之间。

11.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，微孔中间层的平均孔径在0.01-0.5微米之间。

12.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，微孔中间层的平均孔径在0.01-0.1微米之间。

13.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述微孔中间层的厚度在10-1000微米之间。

14.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，微孔中间层的厚度在10-500微米之间。

15.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，微孔中间层的厚度在10-100微米之间。

16.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的过滤皮层为单层或多层。

17.根据权利要求1所述的一种纳米材料混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的过滤皮层为单层，化学组成为聚酰胺，采用界面聚合法进行合成，具体步骤如下：

配制聚酰胺前体物-多胺的水溶液，多胺溶液中，对苯二胺MPD的质量百分比浓度为2％，三乙胺TEA的质量百分比浓度为2％，樟脑磺酸CSA的质量百分比浓度为4％；再配制聚酰胺前体物-酰氯的正己烷溶液，均苯三甲酰氯TMC的质量百分比浓度为0.1％；制备过滤皮层时，将多胺溶剂涂抹于微孔中间层表面，再将微孔中间层置于均苯三甲酰氯TMC的正己烷溶液中，此时极性溶液和非极性溶液之间形成界面，同时在界面发生聚合反应，形成过滤皮层，最终过滤皮层的厚度控制在小于100纳米。