[发明专利]直贴膜有效

专利信息
申请号: 201210226006.1 申请日: 2012-07-03
公开(公告)号: CN102721991A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 王雨田 申请(专利权)人: 四川世创达电子科技有限公司
主分类号: G02B5/26 分类号: G02B5/26;G02B1/10;G02B1/11;B32B15/01;B32B9/04
代理公司: 成都蓉信三星专利事务所 51106 代理人: 熊亮
地址: 610000 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 直贴膜
【权利要求书】:

1.一种直贴膜,其特征在于:包括PET基材,PET基材上设有复合涂层,所述复合涂层为十三层复合结构,从内到外依次为第一抗反射层、过渡层、第一近红外反射层、第二近红外反射层、过渡层、第二抗反射层、过渡层、第三近红外反射层、第四近红外反射层、过渡层、第三抗反射层、保护层和氖吸收粘合剂层,复合涂层上设有离型膜。

2.根据权利要求1所述的直贴膜,其特征在于:所述第一抗反射层为InSnOx膜层结构,InSnOx膜层厚度为20-40nm,InSnOx膜层中,0<x<3。

3.根据权利要求1所述的直贴膜,其特征在于:所述过渡层均为TiOx膜层,厚度为1-5nm,TiOx膜层中,0<x<2。

4.根据权利要求1所述的直贴膜,其特征在于:所述第一近红外反射层和第三近红外反射层为金属Ag层,厚度为4-10nm。

5.根据权利要求1所述的直贴膜,其特征在于:所述第二近红外反射层和第四近红外反射层为金属Al层,厚度为4-10nm。

6.根据权利要求1所述的直贴膜,其特征在于:所述第二抗反射层包括掺杂铝的氧化锌、InSnOx或InSnOx膜层结构,InSnOx膜层厚度为40-80nm,掺杂铝的氧化锌膜层厚度为5-15nm。

7.根据权利要求1所述的直贴膜,其特征在于:所述第三抗反射层包括掺杂铝的氧化锌、InSnOx或InSnOx膜层结构,InSnOx膜层厚度为20-40nm,掺杂铝的氧化锌膜层厚度为5-15nm。

8.根据权利要求6或7所述的直贴膜,其特征在于:所述掺杂铝的氧化锌膜层中,掺杂铝的重量不大于氧化锌重量的5%。

9.根据权利要求1所述的直贴膜,其特征在于:所述保护层为SiOx膜层,厚度为5-15nm,SiOx膜层中,0<x<2。

10.根据权利要求1所述的直贴膜,其特征在于:氖吸收粘合剂层厚度为15μm。

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