[发明专利]光学组件及其制造方法、光伏器件

说明书

技术领域

本发明涉及光学材料领域，尤其涉及一种光学组件及其制造方法、光伏器件。

背景技术

光在传播时，在不同介质的分界面上通常会有一部分改变传播方向而返回原来介质中。这被称为光的反射。通常，不同介质之间折射率的差异越大，光在该分界面处的反射将越强。

在光伏器件、显示器等产品中，如何减小光的反射一直是研究的热点。本领域技术人员研究发现，对于光从空气投射至基底的情形，可以在基底上形成一层抗反射膜，在所述抗反射膜的折射率为空气折射率与基底折射率乘积的平方根时（即满足折射率匹配的条件），所述抗反射膜的厚度为波长的四分之一时（即满足厚度匹配的条件），所述抗反射膜能起到良好的减少反射作用。然而，由于抗反射膜为致密材料，其折射率较大，高于所需匹配值，因此，通常抗反射膜为多孔结构。而抗反射膜的孔隙率（Porosity）、孔径大小、孔径分布以及抗反射膜的厚度对减反射性能至关重要。

在公告号CN100375908C的中国专利中公开了一种单层多孔膜结构的抗反射膜，包含二氧化硅颗粒和至少一种粘合剂化合物的抗反射膜，所述抗反射膜具有30重量%或更高的二氧化硅颗粒含量，2纳米或更小的算术平均表面粗糙度和10原子%或更高的表面硅原子含量。所述中国专利中二氧化硅颗粒、二氧化硅颗粒之间孔隙的等效折射率位于空气与基底之间，可以起到减少反射的作用。此外，所述中国专利提供的抗反射膜具有一定的粗糙度，可提高抗反射膜的机械强度和抗磨性。

所述中国专利形成所述抗反射膜的方法为：在基底上涂覆含有二氧化硅颗粒的溶液和含有粘合剂化合物的溶液。

然而，所述中国专利中制造抗反射膜的方法很难保证抗反射膜具有均匀的孔隙分布，也很难精确控制抗反射膜的厚度等参数。

发明内容

本发明解决的技术问题是提高抗反射光学组件结构的可控性以及制造方法的工艺可控性。

为了解决上述问题，本发明提供一种光学组件的制造方法，包括：提供基底；在所述基底上形成至少一层抗反射层；其中，形成抗反射层的步骤包括：形成带电层；在所述带电层上分散排布与所述带电层电性不同的透光材料颗粒。

可选地，所述基底的材料为玻璃或塑料。

可选地，所述带电层由电解质或带电颗粒形成。

可选地，通过旋涂、喷涂、浸渍或提拉涂膜工艺形成所述带电层或分散排布所述透光材料颗粒。

可选地，所述制造方法还包括：在基底上完成抗反射层的制作之后，对所述光学组件进行加热处理。

可选地，所述加热处理的步骤中加热温度位于300～500℃的范围内，加热持续的时间位于30~130分钟的范围内。

可选地，形成带电层的步骤之前，还包括：提供包含有带电层材料的溶液；调节所述溶液的PH值，以增加带电层的电量。

可选地，所述透光材料颗粒为二氧化硅、二氧化钛、氧化铝或氧化锆颗粒。

可选地，在所述带电层上分散排布与所述带电层电性不同的透光材料颗粒的步骤之前，还包括：提供透光材料颗粒；调节所述透光材料颗粒的PH值，以增加所述透光材料颗粒的电量。

可选地，所述透光材料颗粒为带有负电荷的二氧化硅颗粒。

可选地，在所述带电层上分散排布与所述带电层电性不同的透光材料颗粒的步骤之前，还包括：通过氢氧化钠或氨水溶液调节所述二氧化硅颗粒的PH值，使二氧化硅颗粒的PH值位于8.5~9.5的范围内。

可选地，所述二氧化硅颗粒的粒径位于5~10nm的范围内。

可选地，所述带电层为带正电荷的聚丙烯氯化铵。

可选地，形成带电层的步骤之前，还包括：在聚丙烯氯化铵中加入盐酸或氢氧化钠，使所述聚丙烯氯化铵的PH值位于7~8的范围内。

可选地，所述形成带电层的步骤包括：将基底浸入至带正电荷的聚丙烯氯化铵溶液中持续10~20分钟；之后，将涂覆有聚丙烯氯化铵的基底浸入至去离子水中，持续1~5分钟；最后，所述在所述带电层上分散排布与所述带电层电性不同的透光材料颗粒的步骤包括：将涂覆有聚丙烯氯化铵的基底浸入至带负电荷的二氧化硅颗粒溶液中持续10~20分钟。

可选地，所述带电层由带正电荷的二氧化钛颗粒形成。

相应地，本发明还提供一种所述的任意一制造方法所形成的光学组件。

相应地，本发明还提供一种光伏器件，用于将光能转换为电能，包括：如权利要求17所述的光学组件，所述光学组件中的基底为透明基底；太阳能电池，位于所述透明基底远离光的一侧。

可选地，所述透明基底为有机玻璃或塑料。