[发明专利]光学组件及其制造方法、光伏器件

权利要求书

1.一种光学组件的制造方法，其特征在于，包括：

提供透光材料微球；

对所述透光材料微球进行表面处理，使所述透光材料微球表面携带同性电荷；

提供基底；

使所述携带同性电荷的透光材料微球分散排布在所述基底上，以形成抗反射膜。

2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述透光材料为二氧化硅、二氧化钛、氧化铝或氧化锆。

3.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述透光材料为二氧化硅，所述提供透光材料微球的步骤包括制备透光材料微球，所述制备透光材料微球的步骤包括：

通过乙醇稀释正硅酸乙酯；

将稀释后的正硅酸乙酯浸入至乙醇和水的混合溶液中；

搅拌所述混合溶液形成沉淀物；

将所述沉淀物滤出；

通过水清洗所述沉淀物，所述沉淀物为二氧化硅微球。

4.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述乙醇和水的混合溶液中，乙醇和水的体积比位于8.5:1~9.5:1的范围内。

5.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于，搅拌所述混合溶液的步骤包括：搅拌持续的时间为1.5~2.5个小时。

6.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于，在将稀释后的正硅酸乙酯浸入至乙醇和水的混合溶液中之后，进行搅拌之前，还包括在混合溶液中添加氨水，使所述混合溶液的PH值位于7.8~8.2的范围内。

7.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于，对所述透光材料微球进行表面处理的步骤包括：

将所述二氧化硅微球分散于乙醇中，形成悬浮液；

在所述悬浮液中添加十二烷基硫酸钠，搅拌所述悬浮液，以在所述二氧化硅微球表面形成负电荷。

8.如权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述悬浮液中十二烷基硫酸钠的浓度位于0.5~10摩尔/升的范围内。

9.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，对所述透光材料微球进行表面处理，使所述透光材料微球表面携带同性电荷的步骤包括：在包含有所述透光材料微球的溶液中放置带电的表面活性剂，以使透光材料微球表面携带同性电荷。

10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，在包含有所述透光材料微球的溶液中放置的表面活性剂为十二烷基硫酸钠、二辛基琥珀酸磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠或甘胆酸钠，以使透光材料微球表面携带负电荷。

11.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，在包含有所述透光材料微球的溶液中放置的表面活性剂为十四烷基－二甲基吡啶溴化铵、三十六基氯化铵或二甲基二烯丙基氯化铵，以使透光材料微球表面携带正电荷。

12.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，对所述透光材料微球进行表面处理，使所述透光材料微球表面携带同性电荷的步骤包括：在包含有所述透光材料微球的溶液中放置电解质，以使透光材料微球表面携带同性电荷。

13.如权利要求12所述的制造方法，其特征在于，所述电解质为聚丙烯氯化铵或苯乙烯磺酸钠。

14.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，使所述携带同性电荷的透光材料微球分散排布在基底上，以形成抗反射膜的步骤包括：

使所述携带同性电荷的透光材料微球形成涂膜溶液；

将涂膜溶液涂覆在基底上，形成抗反射膜。

15.如权利要求14所述的制造方法，其特征在于，将涂膜溶液涂覆在基底上，形成抗反射膜的步骤包括：通过旋涂、喷涂、浸渍或提拉涂膜工艺在基底上形成所述抗反射膜。

16.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在形成抗反射膜之后，还包括：对所述抗反射膜进行加热处理。

17.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述透光材料微球为二氧化硅微球，形成抗反射膜的步骤包括：

将二氧化硅微球放置于乙醇中，形成涂膜溶液；

通过旋涂工艺在基底上涂覆包含二氧化硅微球的薄膜。

18.如权利要求17所述的制造方法，其特征在于，所述涂膜溶液中二氧化硅微球的重量百分比位于0.1~5%的范围内。