[发明专利]光罩盒的光罩卡止具无效
申请号: | 201210226696.0 | 申请日: | 2012-06-29 |
公开(公告)号: | CN102854739A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 斋藤 森作;大冢 忠三郎;伊藤 好久 | 申请(专利权)人: | 株式会社荒川树脂;日星产业株式会社 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘国伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光罩盒 光罩卡止具 | ||
技术领域
本发明是一种用以保存或搬运用于制造半导体元件或液晶显示元件等的光罩基板的盒,且是关于一种光罩盒的光罩卡止具,其可牢固地安置在盒内,并且可不接触光罩面即赋予有光罩图案的面或图案化前的表面,进而可防止光罩的破损或由偏移引起产生静电。
背景技术
以往以来,关于半导体集成电路等的制造步骤中所使用的光罩基板,例如用以制造半导体元件或液晶显示元件等的光刻蚀步骤等中所使用的光罩基板,极其排斥基板表面的污染,而关于在保存或搬运该光罩基板时收纳其的光罩盒,使用其的主要目的在于防止在光罩基板上附着尘埃或产生伤痕等。
光罩基板是微细的照相制版品,在光罩基板上附着尘埃或产生伤痕等会成为光罩的缺陷并再现于光阻上,若就这样将该光罩基板装入微电子器件中,则会破坏器件的正常功能,且因尘埃的附着而造成重大损伤,因此必须排除一切污染物,并极力防止尘埃的附着。
因此,例如采用如下构成,即在光罩基板的处理上作出不接触端面以外的面等处理上的规定,或在收纳时小心地处理以免尘埃附着在光罩基板上,此外小心地收纳以免尘埃进入至光罩盒内,进而不使尘埃进入收纳后的光罩盒内。
此外,在赋予有光罩图案的光罩基板上,通过框架支撑光罩护膜即以硝化纤维素为代表的光学上透明的薄膜以防止在光罩图案面上附着尘埃或产生伤痕。
进而,以往的透明导电树脂有时会产生有害气体等,必须提供一种可代替其的素材,特别是可防止由带电所引起的尘埃的附着的树脂材料。
考虑到导电体积电阻率这一点或防止有害气体的产生、或者长期使用等而要求使用碳。
因此,通过以聚碳酸酯为主体的树脂而利用碳赋予导电性,可阻止有害气体的产生及维持导电体积电阻率的合理值(E3~9Ω),虽然在这一点上非常有用,但相反地碳的混入使用量变多,光罩盒特别是与光罩基板接触的卡止部变脆而导致产生微粒等。
尤其关于卡止部,即便在包含高密度聚乙烯或低密度聚乙烯或者聚丙烯树脂等具有比较黏的材质的光罩盒中,也存在为了防止在与光罩基板的接触部分处产生微粒而使卡止具具有特征的光罩盒。
例如,作为光罩盒的卡止具即光罩支撑体,存在日本专利特开2001-301877所示的构成者。
作为该卡止具的光罩支撑体是从本体及盖体的内表面突出必要数量的保持枝部并在该部分上载置光罩基板的构件,关于该保持枝部,揭示有在干部包括具有倾斜平面的台板部的保持枝部或在干部具有帽子部的保持枝部。
或者,作为用以防止与光罩基板的接触并防止光罩基板在收纳时的偏移的构成,有日本专利特开2003-222992或日本专利特开2005-321529。
与日本专利特开2003-222892相关的构成是如下的光罩盒:关于该卡止具使用具有倾斜面的卡止具,本体的开口部方向的卡止具以使倾斜面朝向盒中心部逐渐变低的方式设置,深侧方向的卡止具以使倾斜面朝向盒开口部方向逐渐变低的方式设置,进而盖体的开口部方向的卡止具以使倾斜面朝向盒深侧方向逐渐变低的方式而设置,盖体的深侧方向的卡止具以使倾斜面朝向盒中央部逐渐变低的方式设置,且在闭合盖体时从上下方向并且从前后左右方向按压光罩的棱线部分。
此外,日本专利特开2005-321529中所示的构成是一种具有卡止具的光罩盒,其由如下光罩盒构成,该光罩盒在光罩基板的各角部方向上,具有用以分别在一个角部附近沿两个方向载置或按压光罩基板的进行卡止的卡止具,并且该卡止具包括分别适合于光罩基板的棱线面的倾斜面。
[专利文献1]日本专利特开2001-301877
[专利文献2]日本专利特开2003-222992
[专利文献3]日本专利特开2005-321529
发明内容
[发明所要解决的问题]
首先,通过以聚碳酸酯为主体的树脂而利用碳赋予导电性的导电性树脂在阻止产生有害气体及耐长期使用这一点上非常有用,相反地导电体积电阻率会因碳的混入比率而产生变动,且素材本身的脆性也会产生变动。
因此,要求使用具有最佳的导电体积电阻率的聚碳酸酯树脂。
尤其,因至少含有碳而使素材表现出脆性,且必须防止卡止光罩基板的卡止具的破损、或防止在卡止具与光罩基板的接触部分上产生微粒、以及极力消除由此所引起的光罩基板在光罩盒内的偏移等。
在此情形时,关于日本专利特开2001-301877中,将与光罩的接触部分设为帽子部或具有倾斜平面的台板部而极力减小接触面,但至少在该部分上与光罩的面接触,因而该部分的污染或产生伤痕是不可避免的。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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