[发明专利]高纯氧化铝的制备方法有效
| 申请号： | 201210228009.9 | 申请日： | 2012-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN103523810A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 何礼君;陈慧峰;栗华矗 | 申请（专利权）人： | 何礼君;陈慧峰;栗华矗 |
| 主分类号： | C01F7/42 | 分类号： | C01F7/42 |
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| 地址： | 100088 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高纯 氧化铝 制备 方法 | ||
1.一种高纯氧化铝的制备方法，包括：
将纯度大于99.99％的高纯铝与电子级烃基氢氧化铵溶液反应生成铝有机复盐，且所述生成的铝有机复盐水解生成氢氧化铝；
将所述生成的氢氧化铝经过滤、洗涤后于100～200℃的温度下进行，干燥得到纯度99.999％以上的高纯氢氧化铝；
将干燥后的所述高纯氢氧化铝高温煅烧，得到纯度在99.999％以上的高纯氧化铝。
2.根据权利要求1所述的高纯氧化铝的制备方法，其特征在于，在所述高纯铝与所述电子级烃基氢氧化铵溶液反应之前还包括将所述高纯铝进行轧制得到厚度为5～30um的高纯铝箔的预处理步骤。
3.根据权利要求1所述的高纯氧化铝的制备方法，其特征在于，所述电子级烃基氢氧化铵溶液为四甲基氢氧化铵溶液、四乙基氢氧化铵溶液、四丙基氢氧化铵溶液和四丁基氢氧化铵溶液中一种或多种溶液的混合物。
4.根据权利要求1所述的高纯氧化铝的制备方法，其特征在于，所述高纯铝与所述电子级烃基氢氧化铵溶液在20～100℃的温度下反应。
5.根据权利要求1所述的高纯氧化铝的制备方法，其特征在于，所述高温煅烧在750～1300℃的温度下进行。
6.根据权利要求1所述的高纯氧化铝的制备方法，其特征在于，所述高纯铝与所述电子级烃基氢氧化铵溶液的反应在惰性气体保护下的密闭防腐容器中进行。
7.根据权利要求1所述的高纯氧化铝的制备方法，其特征在于，过滤出氢氧化铝后的母液返回到所述高纯铝与所述电子级烃基氢氧化铵溶液的反应中再次利用。
8.根据权利要求1所述的高纯氧化铝的制备方法，其特征在于，所述烃基氢氧化铵在溶液中的浓度为1～30wt％。
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