[发明专利]一种两层型挠性覆铜板有效

专利信息
申请号: 201210228020.5 申请日: 2012-07-02
公开(公告)号: CN102717554A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 谢新林;杨念群 申请(专利权)人: 富景资本有限公司
主分类号: B32B15/04 分类号: B32B15/04;C23C14/12;C23C14/34
代理公司: 中国商标专利事务所有限公司 11234 代理人: 宋义兴;曾海艳
地址: 中国香港湾仔谢斐道90*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要:
搜索关键词: 一种 两层型挠性覆 铜板
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种两层型挠性覆铜板。

背景技术

挠性覆铜板 FCCL(Flexible Copper Clad Laminate)是指在聚酯薄膜(PET)或聚酰亚胺薄膜 ( PI ) 等挠性绝缘材料的单面或双面,通过一定的工艺处理,与一定厚度的铜箔粘接在一起所形成的具有很好的挠曲特性的覆铜板。挠性覆铜板 FCCL分为有胶粘剂的三层板(3L-FCCL)和无胶粘剂的两层板(2L-FCCL)。相比于三层型挠性覆铜板(3L-FCCL),两层型挠性覆铜板 ( 2L-FCCL ) 由于不含环氧胶粘剂或丙烯酸酯胶粘剂,其耐热性、尺寸稳定性、抗老化性、可靠性等各方面性能均优于三层型挠性覆铜板(3L-FCCL),因而得到迅速发展。

目前,制备两层型挠性覆铜板(2L-FCCL)的方法主要有:(1) 涂布法 (也称浇注法,Casting)、(2) 压合法 (也叫层压法,Lamination)。

1. 涂布法 ( 浇注法,Casting ):

早期的涂布法,是将聚酰亚胺(PI)的预聚体(聚酰胺酸、PAA)单面涂布在铜箔表面,经过干燥去除溶剂和高温亚胺化而制备。这种方法制程相对简单,容易实施。但制品中铜层与聚酰亚胺之间的粘合性和制品尺寸的稳定性差。

近年来业界开发了多层涂布法,其制程为:在铜箔表面先涂布(浇注)一层热塑性 PI  (TPI)树脂,然后再涂一层低热膨胀系数的 PI ( 低CTE-PI ) 树脂,最后再涂一层热塑性 PI ( TPI )树脂,经高温亚胺化后再与铜箔压合,制成产品。

采用多层涂布法(浇注法)可以取得两方面的效果:

(1)制品的粘合性和尺寸稳定性处于较好的统一;

(2)保持整体结构的对称,减少制品卷曲。

但是多层涂布法(浇注法)也有美中不足的地方,如制程复杂化、设备投入成本较大等问题,而且因为制备薄铜箔所存在的技术问题,此法很难生产铜箔厚度为18微米以下厚度的 2L-FCCL。此法主要用来生产单面板。

2. 压合法 ( 层压法,Lamination ): 压合法是近年来发展比较快的一种工艺方法,它是在低膨胀系数 PI( CTE-PI )膜的基础上,双面或单面涂布一种具有优秀粘合性的热塑性 PI 树脂的预聚体( 聚酰胺酸、PAA),经干燥和亚胺化后,制成复合膜。再在高温高压下,将热塑性树脂重新熔融后与铜箔压合制成单面或双面的产品。

目前已有基膜制造商提供这种复合膜,复合膜是在高尺寸稳定性的 PI 薄膜上涂覆一层热塑性 PI 树脂 ( TPI ) 组成的,FCCL厂家可以直接将复合膜与铜箔热压成板。

压合法(层压法)的特点:

(1)制程相对简单,但成本相对比涂布法要高;

(2)适合小批量多品种的生产模式;

(3)单面和双面产品均可生产;

(4)产品具有粘合性和尺寸稳定性兼优的综合性能。

因为制备薄铜箔所存在的技术问题,此法同样也很难生产铜箔厚度为18微米以下厚度的 2L-FCCL。

涂布法和压合法生产的 2L-FCCL,铜箔与聚酰亚胺(PI)基体的结合力好,即剥离强度高,但是其制作工艺复杂,对设备要求高,导致成本高昂。更由于要使用已经做好的铜箔(压延铜箔和电解铜箔),而受限于工艺的原因,压延铜箔和电解铜箔都很难做成18微米以下厚度,如12微米、9微米、7微米等厚度。使得其在以 HDI(高密度互联基板)技术和 COF(Chip on Flex,柔性芯片) 技术为基础的液晶(等离子)显示器、液晶(等离子)电视等中高档精密电子产品中的应用受到了一定的限制。

发明内容

本发明为了克服现有技术中所存在的技术缺陷,提供了一种铜箔与有机高分子薄膜之间的结合力(剥离强度)较高且为超薄的两层型挠性覆铜板。

本发明提供了一种两层型挠性覆铜板,其包括有机高分子薄膜以及覆盖在该机高分子薄膜上的铜层,其特征在于,所述铜层与所述有机高分子薄膜之间的剥离强度高于0.6N/mm,并且所述两层型挠性覆铜板的制备方法包括通过离子束溅射对有机高分子聚合物薄膜进行镀覆金属的步骤;其中,所述离子束溅射的参数包括:离子束与被轰击的金属靶板平面法线之间的夹角为20-70°,所述溅射离子源与所述金属靶板的被轰击的位置之间的距离为20-40厘米;所述金属靶板上被离子束轰击的位置与所述有机高分子聚合物薄膜接收被轰击出的金属原子处之间的距离为10-30厘米。

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