[发明专利]投影光学系统及具备该投影光学系统的投影机有效

专利信息
申请号: 201210229321.X 申请日: 2012-07-03
公开(公告)号: CN102866483A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 大谷信;守国荣时 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02B15/14 分类号: G02B15/14;G03B21/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 陈海红;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 投影 光学系统 具备 投影机
【权利要求书】:

1.一种投影光学系统,其特征在于,在被投影面上放大投影图像时,使上述光调制元件的图像的横纵比与在上述被投影面上投影的图像的横纵比成为不同,上述投影光学系统包括:

光圈,限制光束的通过;

光调制元件侧透镜群,配置在从上述光调制元件到上述光圈之间,包含在上述光调制元件的纵方向和横方向具有不同的放大率并且在光路上可以进退的调整光学要素群;

上述调整光学要素群,在光路上一体地进退的同时,随着进退使在上述物体侧透镜群的横断面的上述被投射面侧的焦点和在纵断面的上述被投射面侧的焦点变化;

将在上述调整光学要素群在光路上的状态的上述光调制元件侧透镜群的横断面中,上述被投影面侧的焦点和上述被投影面侧的最端面的距离设为FFPx,

将在上述调整光学要素群在光路上的状态的上述光调制元件侧透镜群的纵断面中,上述被投影面侧的焦点和上述被投影面侧的最端面的距离设为FFPy,

将上述调整光学要素群从光路上避开的状态的上述光调制元件侧透镜群的上述被投影面侧的焦点和上述被投影面侧的最端面的距离设为FFPL,

在FFPx<FFPy时,为FFPx<FFPL<FFPy,

在FFPy<FFPx时,为FFPy<FFPL<FFPx。

2.如权利要求1所述的投影光学系统,其特征在于,

将在上述调整光学要素群在光路上的状态中,上述光圈和上述光调制元件侧透镜群的上述被投影面侧的最端面的距离设为p,

在FFPx<FFPy时,为FFPx<p<FFPy,

在FFPy<FFPx时,为FFPy<p<FFPx。

3.如权利要求2所述的投影光学系统,其特征在于,

上述光圈和上述光调制元件侧透镜群的上述被投影面侧的最端面的距离p大致等于上述调整光学要素群从光路上避开的状态的上述物体侧透镜群的上述投影面侧的焦点和上述被投影面侧的最端面的距离FFPL。

4.如权利要求2或3所述的投影光学系统,其特征在于,

在FFPx<FFPy时,为FFPx<p≤(FFPy+FFPx)/2;

在FFPy<FFPx时,为FFPy<p≤(FFPy+FFPx)/2。

5.如权利要求1至4的任意一项所述的投影光学系统,其特征在于,

上述调整光学要素群包含具有至少1个以上的旋转对称透镜的旋转对称透镜群。

6.如权利要求1至4的任意一项所述的投影光学系统,其特征在于,

上述调整光学要素群包含关于上述光调制元件的纵方向和横方向中一方向具有比另一方向强的放大率的至少1个以上的第1变形透镜群,关于上述另一方向具有比上述一方向强的放大率的至少1个以上的第2变形透镜群。

7.如权利要求1至4的任意一项所述的投影光学系统,其特征在于,

上述调整光学要素群包含在上述光调制元件的纵方向和横方向具有将正负组合的放大率的至少1个以上的自由曲面透镜。

8.如权利要求7所述的投影光学系统,其特征在于,

上述调整光学要素群至少具有关于上述光调制元件的纵方向和横方向放大率的正和负互相交替的2个上述自由曲面透镜。

9.如权利要求5所述的投影光学系统,其特征在于,

上述调整光学要素群,在上述光调制元件的纵方向的断面,包括具有正放大率的第1光学要素群、相比于上述第1光学要素群在上述光调制装置侧配置的具有负放大率的第2光学要素群、和上述旋转对称透镜群,

上述旋转对称透镜群,包括具有负放大率的第1旋转对称透镜、和相比于上述第1旋转对称透镜在上述光调制元件侧配置的具有正放大率的第2旋转对称透镜。

10.如权利要求5所述的投影光学系统,其特征在于,

上述调整光学要素群,在上述光调制元件的横方向的断面,包括具有负放大率的第1光学要素群、相比于上述第1光学要素群在上述光调制元件侧配置的具有正放大率的第2光学要素群、和上述旋转对称透镜群,

上述旋转对称透镜群,包括具有正放大率的第1旋转对称透镜、和相比于上述第1旋转对称透镜在上述光调制元件侧配置的具有负放大率的第2旋转对称透镜。

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