[发明专利]双光束干涉光刻方法和系统

权利要求书

1.一种双光束干涉光刻方法，其特征在于，两路光束在加工工件表面实现N次干涉曝光，相邻两次曝光位置之间的错位值为d_I/N，其中，N≥2，d_I为曝光后的光强分布的周期，所述两路光束干涉后的光场复振幅分布为余弦函数。

2.一种应用权利要求1所述双光束干涉光刻方法的系统，其特征在于，包括：

激光光源；

扩束准直光学元件，将来自激光光源的激光束准直成平行光；

光学模板，用以控制曝光区域的大小和形状；

分光元件，对激光束进行分光；

投影光学镜组，接收所述分光后的激光束并将其汇聚到加工工件表面实现干涉曝光，干涉后的光场复振幅分布为余弦函数；

楔形位相板，控制相邻两次曝光位置之间的错位值为d_I/N，其中，N≥2，d_I为曝光后的光强分布的周期。

3.根据权利要求2所述的双光束干涉系统，其特征在于，所述光学模板为掩膜或空间光调制器。

4.根据权利要求2所述的双光束干涉系统，其特征在于，所述分光元件包括位相光栅。

5.根据权利要求4所述的双光束干涉系统，其特征在于，所述位相光栅抑制0级光束。

6.根据权利要求4所述的双光束干涉系统，其特征在于，所述分光元件还包括光阑，所述光阑遮挡来自所述位相光栅的0级光束。

7.根据权利要求2所述的双光束干涉系统，其特征在于，所述投影光学镜组包括第一投影光学镜组和第二投影光学镜组，所述楔形位相板位于所述第一投影光学镜组和第二投影光学镜组之间，所述楔形位相板位于所述两路光束之一的光路上。

8.根据权利要求2所述的双光束干涉系统，其特征在于，所述双光束干涉系统还包括压电陶瓷驱动装置，所述楔形位相板由该压电陶瓷驱动装置驱动。