[发明专利]利用小型粒子加速器生产核孔膜

权利要求书

1.核孔膜生产工艺过程主要包括高能粒子辐照如聚碳酸酯，聚酯等电介质薄膜、增敏、化学蚀刻、清洗、烘干等，本发明的特征是利用低能、小型粒子加速器系列化生产核孔膜，具体说，它不是利用核反应堆中子轰击铀产生的裂变碎片来辐照如聚碳酸酯，聚酯等电介质薄膜。也不是利用重离子加速器加速如溴、碘、氪、氙等相当于铀裂变碎片那样的重离子，辐照聚碳酸酯、聚酯等电介质薄膜来生产核孔膜，而是利用能量较低的小型粒子加速器加速如氧、氖、硅、氯、氩等质量数小于60的离子，辐照聚碳酸酯、聚酯等电介质薄膜系列化生产核孔膜，这种能量较低的小型粒子加速器，包括2×6MV的串列粒子加速器以及能量常数小于70MeV的可变能量回旋加速器。

2.离子束辐照如聚碳酸酯、聚酯等电介质薄膜的辐括照装置主要包束流导向、聚焦透镜、束流扫描、束流传输真空管道、辐照靶室、束流测量、薄膜导向、薄膜卷绕等装置。本发明的技术特征是束流经扫描通过真空管道后，直接辐照如聚碳酸酯、聚酯等电介质薄膜，在真空管道与辐照靶室之间没有真空隔离薄膜，避免了束流通过真空隔离薄膜时的能量损失。

3.辐照时，需要粒子加速器的束流稳定，同时薄膜的线速度必须不变，本发明的技术特征是薄膜卷绕时，利用橡胶棍和薄膜之间的摩擦力使卷膜筒转动，保持橡胶棍的转速，就能保证卷膜时薄膜的线速度不变。

4.增加核径迹蚀刻灵敏度是利用小型加速器生产核孔膜的关键。本发明的技术特征是上述经离子辐照的薄膜在氧气中或富氧的条件下用紫外光增敏，或者在空气中增加紫外光增敏的时间，对于生产小孔径核孔膜来说一般增敏2-3小时，聚碳酸酯膜的核径迹蚀刻灵敏度可达1000以上，这就保证了生产纳米孔径核孔膜的基本要求。聚酯薄膜其核径迹蚀刻灵敏度可达100以上，这就保证了生产孔径0.2微米核孔膜的要求。

5.在蚀刻过程中，微孔中的蚀刻产物层将会影响进一步的蚀刻。本实发明的技术特征是蚀刻装置装有超声波发生器。