[发明专利]三维测量系统

权利要求书

1.一种三维测量系统，其特征在于，包含：

一测量平台，用以承载一待测物体；

一投影模块，包含；

一发光单元，用以产生一光线，该发光单元设置于该待测物体上方且位于该测量平台的一垂直轴线上；

一遮光转盘，设置于该发光单元与该待测物体之间，且位于该垂直轴线上，该遮光转盘上开设有一孔洞，随着该遮光转盘转动该孔洞依时序位于相异的转动位置，通过该孔洞的该光线借此依时序形成多个区段光线；

一光栅单元，位于该遮光转盘与该待测物体之间，用以将通过该孔洞各区段光线转换为多个条纹光线；以及

一光反射环型结构，设置于该光栅单元与该待测物体之间，且环绕于该垂直轴线四周，用以将该些条纹光线分别反射至该待测物体上；

一取像模块，用以撷取该待测物体于该些条纹光线下的多个条纹影像；以及

一控制单元，用以控制该投影模块以及该取像模块，并经由该些条纹影像测量该待测物体的三维形状。

2.根据权利要求1所述的三维测量系统，其特征在于，该遮光转盘平行该测量平台并沿一旋转轴线转动，并且该旋转轴线与该垂直轴线重合或平行于该垂直轴线。

3.根据权利要求1所述的三维测量系统，其特征在于，该光反射环型结构包含多个平面反射镜，该些平面反射镜固定地环绕设置于该垂直轴线四周，且面向该垂直轴线。

4.根据权利要求3所述的三维测量系统，其特征在于，随着该遮光转盘上该孔洞依时序转动所产生的该些区段光线，转换为该些条纹光线后是各自对应至其中一个平面反射镜。

5.根据权利要求1所述的三维测量系统，其特征在于，该光反射环型结构包含一光反射环型腔体，该光反射环型腔体固定地环绕设置于该垂直轴线四周，且该光反射环型腔体的一反射面面向该垂直轴线。

6.根据权利要求5所述的三维测量系统，其特征在于，随着该遮光转盘上该孔洞依时序转动所产生的该些区段光线，转换为该些条纹光线后是各自照射于该光反射环型腔体上的相异位置。

7.根据权利要求1所述的三维测量系统，其特征在于，该些区段光线相对该垂直轴线是向外侧发散，而经该光反射环型结构反射后的该些条纹光线是向内侧聚集并投射至该待测物体上。

8.根据权利要求1所述的三维测量系统，其特征在于，该投影模块还包含一光栅移动器用以水平移动该光栅单元，借此形成该些条纹光线的各种相位角，该取像模块进一步撷取该待测物体于该些条纹光线的各种相位角下反射形成的该些条纹影像。

9.一种三维测量系统，其特征在于，包含：

一测量平台，用以承载一待测物体；

一投影模块，包含；

一基板；

多个发光二极管，设置于该基板，每一该些发光二极管依时序分别用以产生一指向光线，该些发光二极管设置于该待测物体上方且环绕该测量平台的一垂直轴线；以及

一光栅单元，位于该些发光二极管与该待测物体之间，用以将该些发光二极管产生的该些指向光线转换为多个条纹光线；以及

一光反射环型结构，设置于该光栅单元与该待测物体之间，且环绕于该垂直轴线四周，用以将该些条纹光线分别反射至该待测物体上；

一取像模块，用以撷取该待测物体于该些条纹光线下的多个条纹影像；以及

一控制单元，用以控制该投影模块以及该取像模块，并经由该些条纹影像测量该待测物体的三维形状。

10.根据权利要求9所述的三维测量系统，其特征在于，该光反射环型结构包含多个平面反射镜，该些平面反射镜固定地环绕设置于该垂直轴线四周，且面向该垂直轴线。

11.根据权利要求10所述的三维测量系统，其特征在于，该些发光二极管各自朝向其中一个平面反射镜，该些发光二极管产生的该些指向光线，转换为该些条纹光线后是各自投射至相对应的其中一个平面反射镜。

12.根据权利要求9所述的三维测量系统，其特征在于，该光反射环型结构包含一光反射环型腔体，该光反射环型腔体固定地环绕设置于该垂直轴线四周，且该光反射环型腔体的一反射面面向该垂直轴线。

13.根据权利要求12所述的三维测量系统，其特征在于，随着该些发光二极管产生的该些指向光线，转换为该些条纹光线后是各自照射于该光反射环型腔体上的相异位置。