[发明专利]一种 VD 炉真空罐体密封圈保护装置

说明书

技术领域

本发明属于冶金设备技术领域，涉及一种VD炉真空罐体密封圈用保护装置。

背景技术

VD真空脱气炉罐盖一般是由密封大炉盖和中心小炉盖组成。中心小炉盖的主要作用是屏蔽真空脱气过程钢液的高温辐射和防止钢渣的直接溅出，保护大炉盖，减轻高温对大炉盖及其配置设备的损坏，确保真空脱气过程顺行；同时，屏蔽炉内的热量，减少热量散失，起到保温和避免在VD炉真空脱气过程中造成钢液的温降过大的作用。中心小炉盖一般由炉盖外壳及保温层耐材内衬两部分构成。在真空脱气过程中，中心小炉盖由于受高温气流冲刷、高温炉渣、钢液的辐射，内衬温度高达1400℃-1700℃。精炼结束，罐体炉盖抬起、开出时温度900℃-1100℃，在下炉钢液吊进真空罐体后，罐体炉盖开进，此时中心屏蔽小炉盖内衬的温度仍达600℃-900℃。

真空罐体的上沿为一环形凹槽，凹槽内设有橡胶质密封圈，并注入水，以在罐体炉盖下落时起到良好的密封、冷却作用。由于罐体炉盖车设置在真空罐体的一侧；因此，在炉盖开进、开出的过程中，靠近该侧的真空罐体密封圈，受中心小炉盖高温内衬的辐射、烘烤作用，易发生变形、开裂，降低密封圈使用寿命、增加生产成本，影响真空罐体的密封及真空精炼效果。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术的不足，依据VD炉真空罐体用密封圈在中心小炉盖内衬高温辐射、烘烤作用下易变形、开裂，导致使用寿命降低，生产成本增加，并影响真空罐体的密封及真空精炼效果的实际，提供一种VD炉真空罐体用密封圈护板及设有该护板的密封圈保护装置，以减轻或避免中心小炉盖高温内衬对密封一侧密封圈的辐射、烘烤作用，提高密封圈寿命，降低生产成本，保证真空罐体的密封及真空精炼效果。

一种VD炉真空罐体密封圈护板，包括一个用于覆盖密封圈的扇环部。

优选的，扇环部外侧设置一个用于放置和取出该护板的托持部。

优选的，所述托持部为矩形。

一种VD炉真空罐体密封圈保护装置，包括护板（4）和护板升降系统，护板（4）包括一个用于覆盖密封圈的扇环部，扇环部外侧设置一个用于放置和取出该护板的托持部。

护板升降系统的优选方案是，设置立柱（1），立柱（1）通过支架(2)与VD炉罐盖(11)固定连接；护板升降系统包括升降杆（5）、连接杆（6）、转动轴（7）、支撑杆（8），升降杆（5）的上端设有凹槽（10），下端通过转动轴（7）与支撑杆（8）的前端连接，支撑杆（8）的后端固定在真空罐体（12）外壳上；连接杆（6）的下端固定在升降杆（5）上，连接杆（6）的上端固定在护板（4）托持部的底面。

优选的，托持部为矩形。

优选的，支架(2)与立柱和与VD炉罐盖(11)的固定连接、支撑杆（8）的后端与真空罐体（12）外壳的固定连接，连接杆（6）的下端与升降杆（5）的固定连接，以及连接杆（6）的上端与护板（4）托持部底面的固定连接均采用焊接的方式。

为了能够让立柱（1）便于定位，与升降杆（5）更易结合，优选的，立柱（1）是圆柱体，升降杆（5）上端的凹槽为圆形凹槽。

为了实现护板快速升降，使护板升降更加灵敏，优选的，连接杆（6）的下端固定在升降杆（5）的中上部。

优选的，升降杆（5）上端的圆形凹槽（10）内径为立柱(1)外径的1.5-1.8倍。

优选的，护板（4）的扇环部内径为真空罐体(12)上沿凹槽（9）内径的0.8-1.2倍，扇环部的外径为真空罐体(12)上沿凹槽（9）外径的1-1.2倍。

本发明提供的VD炉真空罐体密封圈保护装置，可以有效减轻或避免中心小炉盖高温内衬对密封一侧密封圈的辐射、烘烤作用，提高密封圈寿命，降低生产成本，保证真空罐体的密封及真空精炼效果。

附图说明

图1一种VD炉真空罐体密封圈护板的结构示意图；

图2本发明VD炉真空罐体密封圈保护装置结构示意图；

图3本发明VD炉真空罐体密封圈保护装置俯视结构示意图。

其中：1-立柱，2-支架，3-密封圈，4-护板，5-升降杆，6连接杆，7-转动轴，8-支撑杆，9-罐体上沿凹槽，10-升降杆凹槽，11-罐盖，12真空罐体,41-扇环部，42-托持部。

具体实施方式

如图1所示，一种VD炉真空罐体密封圈护板4，包括一个用于覆盖密封圈3的扇环部41。扇环部41外侧设置一个用于放置和取出该护板的托持部42。优选的，该托持部42为矩形。护板4可以使用普通钢板制成，也可以使用任何耐热材料。