[发明专利]图形化衬底及其形成方法及用于制作所述衬底的掩膜版

权利要求书

1.一种图形化衬底，包括衬底和衬底表面的周期性图形，其特征在于：所述周期性图形包括下列情况中的任意一种：(1)由从下至上阶梯型依次堆叠的m+1个圆台、(2)由从下至上阶梯型依次堆叠的m+1个椭圆台、(3)由从下至上阶梯型依次堆叠的m+1个多棱台、(4)由从下至上阶梯型依次堆叠的m个圆台和位于最上端圆台的1个圆锥、(5)由从下至上阶梯型依次堆叠的m个椭圆台和位于最上端椭圆台的椭圆锥、(6)由从下至上阶梯型依次堆叠的m个多棱台和位于最上端多棱台的多棱锥，其中m为自然数，所述m的取值范围为1＜m＜1000。

2.根据权利要求1所述的图形化衬底，其特征在于：所述圆台、椭圆台、多棱台、圆锥、椭圆锥或多棱锥的侧面还具有凹槽或凸起。

3.根据权利要求2所述的图形化衬底，其特征在于：所述凹槽或凸起形状为方形、锯齿形或不规则形状。

4.根据权利要求1所述的图形化衬底，其特征在于：第i+1个圆台、椭圆台或多棱台位于第i个圆台、椭圆台或多棱台的上方，且第i+1个圆台、椭圆台或多棱台的底面直径小于第i个圆台、椭圆台或多棱台的顶面直径，所述i的取值范围为1≤i＜m。

5.根据权利要求1所述的图形化衬底，其特征在于：所述圆锥、椭圆锥或多棱锥的侧面与底面的夹角为40度-60度。

6.根据权利要求1所述的图形化衬底，其特征在于：所述圆台、椭圆台或多棱台的侧面与底面的夹角为40度-60度。

7.根据权利要求1所述的图形化衬底，其特征在于：所述周期性图形的底部直径为2μm-5μm，高度为1.5μm-5μm，相邻两个图形的底部间距为3μm-10μm。

8.一种用于制作图形化衬底的掩膜版，其特征在于：所述掩膜版包括圆形阵列、椭圆形阵列或多边形阵列。

9.根据权利要求8所述的掩膜版，其特征在于：所述圆形阵列、椭圆形阵列或多变形阵列中的每一圆形、椭圆形或多边形的区域内部分别包含m+1个同心圆环、同心椭圆环或同心多边形环。

10.根据权利要求9所述的掩膜版，其特征在于：所述m+1个同心圆环、同心椭圆环或同心多边形环的边缘的图案为方形、锯齿形或不规则形状。

11.根据权利要求8所述的掩膜版，其特征在于：第i+1个圆环、椭圆形环或多边形环位于第i个圆环、椭圆环或多边形环的内侧，且所述第一个圆环、椭圆环或多边形环至第m+1个圆环或椭圆环或多边形环的透光率呈公差非零的等差数列，所述i的取值范围为1≤i＜m。

12.根据权利要求8所述的掩膜版，其特征在于：所述圆形、椭圆形、多边形的关键尺寸为2μm-5μm，圆形阵列、椭圆形阵列或多边形阵列的间距为3μm-10μm。

13.根据权利要求8至12任一权利要求所述的掩膜版，其特征在于：所述掩膜版制作权利要求1至7所述任一权利要求所述的图形化衬底。

14.一种制作图形化衬底的方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一衬底；

在所述衬底上涂覆光刻胶；

光刻所述光刻胶形成呈阶梯型堆叠的m+1个圆柱、椭圆柱或多棱柱的周期性图形；

第一步刻蚀所述衬底，形成从下至上呈阶梯型堆叠的m+1个圆柱或椭圆柱或多棱柱的周期性衬底图形；

第二步刻蚀所述周期性衬底图形，形成图形化衬底，所述图形化衬底包括下列情况中任意一种：(1)由从下至上阶梯型堆叠的m+1个圆台、(2)由从下至上阶梯型堆叠的m+1个椭圆台、(3)由从下至上阶梯型堆叠的m+1个多棱台、(4)由从下至上阶梯型依次堆叠的m个圆台和位于最上端圆台的1个圆锥、(5)由从下至上阶梯型依次堆叠的m个椭圆台和位于最上端椭圆台的椭圆锥、(6)由从下至上阶梯型依次堆叠的m个多棱台和位于最上端多棱台的多棱锥，其中m为自然数，所述m的取值范围为1＜m＜1000。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于：所述圆台、椭圆台、多棱台、圆锥、椭圆锥或多棱锥的侧面还具有凹槽或凸起。

16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于：所述凹槽或凸起形状为方形、锯齿形或不规则形状。