[发明专利]磁盘用玻璃基板、磁盘及磁盘的制造方法、垂直磁记录盘、硬盘

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板，其特征在于，在玻璃基板的比外周端靠中心部侧的表面任意选择了两个部位的各区域中，在各区域的表面形状中抽取形状波长为60～500μm波段的表面形状，将该表面形状的自乘平均平方根设为微小波动（MW-Rq）时，所述各区域的微小波动（MW-Rq）的差为0.02nm以下，所述各区域的微小波动（MW-Rq）的比为1.1以下，所述两个部位的区域分别是处在距基板中心的半径为31.5±0.05mm以及半径为25±3mm的范围内的沿着圆周方向的区域，微小波动（MW-Rq）使用激光多普勒测振仪进行测定。

2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的外周端部形状是以主表面为基准面处于±30nm以内的范围的形状。

3.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，与浮起量为5nm以下的磁头一起使用。

4.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，所述磁盘用玻璃基板是装载卸载方式的磁盘用玻璃基板。

5.一种磁盘，其特征在于，在如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的表面至少形成有磁性层。

6.一种磁盘的制造方法，其特征在于，具有：

制造如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的工序，和

在所述磁盘用玻璃基板的表面至少形成磁性层的工序。

7.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，所述外周端部侧的微小波动（MW-Rq）比所述中心部侧的微小波动（MW-Rq）大。

8.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的主表面中的微小波动（MW-Rq）的平均值为0.4nm以下。

9.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，求出按相同半径沿圆周方向连续测定的所述微小波动（MW-Rq）的平均值及标准偏差。

10.一种垂直磁记录盘，其特征在于，在如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板上至少具有垂直磁记录层。

11.一种硬盘，其特征在于，至少具有磁头和如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板。

12.一种磁盘用玻璃基板，其特征在于，在玻璃基板的比外周端靠中心部侧的表面任意选择了两个部位的各区域中，在各区域的表面形状中抽取形状波长为60～500μm波段的表面形状，将该表面形状的自乘平均平方根设为微小波动（MW-Rq）时，所述各区域的微小波动（MW-Rq）的标准偏差的差为0.04nm以下，所述各区域的微小波动（MW-Rq）的标准偏差的比为1.1以下，所述两个部位的区域分别是处在距基板中心的半径为31.5±0.05mm以及半径为25±3mm的范围内的沿着圆周方向的区域，微小波动（MW-Rq）使用激光多普勒测振仪进行测定。

13.如权利要求12所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的外周端部形状是以主表面为基准面处于±30nm以内的范围的形状。

14.如权利要求12所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，与浮起量为5nm以下的磁头一起使用。

15.如权利要求12所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，所述磁盘用玻璃基板是装载卸载方式的磁盘用玻璃基板。

16.一种磁盘，其特征在于，在如权利要求12所述的磁盘用玻璃基板的表面至少形成有磁性层。

17.一种磁盘的制造方法，其特征在于，具有：

制造如权利要求12所述的磁盘用玻璃基板的工序，和

在所述磁盘用玻璃基板的表面至少形成磁性层的工序。

18.如权利要求12所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，所述外周端部侧的微小波动（MW-Rq）比所述中心部侧的微小波动（MW-Rq）大。

19.如权利要求12所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的主表面中的微小波动（MW-Rq）的平均值为0.4nm以下。

20.如权利要求12所述的磁盘用玻璃基板，其特征在于，求出按相同半径沿圆周方向连续测定的所述微小波动（MW-Rq）的平均值及标准偏差。