[发明专利]一种用于化学研磨机台的水箱系统有效
| 申请号： | 201210231293.5 | 申请日： | 2012-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN103522169A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 刘波;顾军 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 研磨 机台 水箱 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于化学研磨机台的水箱系统，其特征在于，包含：
水箱（1），所述的水箱（1）设置在外部的化学研磨机台的一侧，该水箱（1）中放置待用的晶片，该水箱（1）连接外部的去离子水管道（6），该去离子水管道（6）向水箱（1）中输入去离子水以保持晶片湿润；
第一空气阀（2），所述的第一空气阀（2）设置在去离子水管道（6）上，该第一空气阀（2）的控制端与外部的压缩空气管道（5）相连，当该控制端中输入压缩空气，则第一空气阀（2）开启，去离子水管道（6）向水箱（1）中输入去离子水。
2.根据权利要求1所述的用于化学研磨机台的水箱系统，其特征在于，所述的压缩空气管道（5）还与化学研磨机台的第二空气阀（3）的控制端相连，该第二空气阀（3）设置在外部的氮气管道（4）上；当压缩空气管道（5）输入的压缩空气导通第二空气阀（3）以输入氮气的同时，输入第一空气阀（2）的压缩空气导通第一空气阀（2）以输入去离子水，第一空气阀（2）和第二空气阀（3）实现联动。
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