[发明专利]高纯电镀级硫酸铜除铅工艺无效

专利信息
申请号: 201210235372.3 申请日: 2012-07-09
公开(公告)号: CN102730746A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 薛克艳;庄永;赵中华;金梁云;姚明辉 申请(专利权)人: 昆山市千灯三废净化有限公司
主分类号: C01G3/10 分类号: C01G3/10;C25D3/38
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 215341 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 高纯 电镀 硫酸铜 工艺
【权利要求书】:

1.一种高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于该工艺包括以下步骤:

(1)将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液分别压滤,除去机械杂质;

(2)称取一定质量的Na2SO4和可溶性钡盐,分别溶解在水中配成溶液;

(3)在搅拌下将钡盐溶液和Na2SO4溶液加入酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液中,加完之后继续搅拌反应一段时间;

(4)将反应完成之后的酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液沉降,过滤;

(5)中和酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液;

(6)陈化,过滤;

(7)洗涤;

(8)酸化;

(9)冷却结晶。

2.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(1)中酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的浓度为1~10%,所述的酸性蚀刻废液为氯化铜、硝酸铜或硫酸铜蚀刻废液中的一种或几种;所述步骤(1)中压滤采用板框压滤,滤布的规格为600~1000目。

3.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(2)中Na2SO4的用量为2~3千克/10吨酸性蚀刻废液或碱性蚀刻废液,具体的加入量根据酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的用量具体计算;所述步骤(2)中可溶性钡盐为BaCl2或Ba(NO3)2,可溶性钡盐的质量按照化学计量比与Na2SO4的用量相对应。

4.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(3)中钡盐溶液和Na2SO4溶液的加入为同时加入,加入完成后继续搅拌反应时间不小于30分钟。

5.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(4)中酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液除铅之后的压滤采用板框压滤,滤布滤布的规格为600~1000目。

6.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(5)中酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的中和后pH值为4.7~5.2。

7.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(7)中洗涤采用打浆洗涤的方式,洗涤采用纯水,洗涤次数不少于2次。

8.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(8)中采用浓硫酸酸化。

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