[发明专利]高纯电镀级硫酸铜除铅工艺无效
申请号: | 201210235372.3 | 申请日: | 2012-07-09 |
公开(公告)号: | CN102730746A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 薛克艳;庄永;赵中华;金梁云;姚明辉 | 申请(专利权)人: | 昆山市千灯三废净化有限公司 |
主分类号: | C01G3/10 | 分类号: | C01G3/10;C25D3/38 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215341 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高纯 电镀 硫酸铜 工艺 | ||
1.一种高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于该工艺包括以下步骤:
(1)将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液分别压滤,除去机械杂质;
(2)称取一定质量的Na2SO4和可溶性钡盐,分别溶解在水中配成溶液;
(3)在搅拌下将钡盐溶液和Na2SO4溶液加入酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液中,加完之后继续搅拌反应一段时间;
(4)将反应完成之后的酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液沉降,过滤;
(5)中和酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液;
(6)陈化,过滤;
(7)洗涤;
(8)酸化;
(9)冷却结晶。
2.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(1)中酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的浓度为1~10%,所述的酸性蚀刻废液为氯化铜、硝酸铜或硫酸铜蚀刻废液中的一种或几种;所述步骤(1)中压滤采用板框压滤,滤布的规格为600~1000目。
3.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(2)中Na2SO4的用量为2~3千克/10吨酸性蚀刻废液或碱性蚀刻废液,具体的加入量根据酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的用量具体计算;所述步骤(2)中可溶性钡盐为BaCl2或Ba(NO3)2,可溶性钡盐的质量按照化学计量比与Na2SO4的用量相对应。
4.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(3)中钡盐溶液和Na2SO4溶液的加入为同时加入,加入完成后继续搅拌反应时间不小于30分钟。
5.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(4)中酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液除铅之后的压滤采用板框压滤,滤布滤布的规格为600~1000目。
6.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(5)中酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的中和后pH值为4.7~5.2。
7.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(7)中洗涤采用打浆洗涤的方式,洗涤采用纯水,洗涤次数不少于2次。
8.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除铅工艺,其特征在于:所述步骤(8)中采用浓硫酸酸化。
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