[发明专利]流体处理结构、光刻设备和器件制造方法有效
申请号: | 201210238530.0 | 申请日: | 2012-07-10 |
公开(公告)号: | CN102880006A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | R·H·M·考蒂;N·坦凯特;N·J·J·罗塞特;M·瑞鹏;H·J·卡斯特里金斯;C·M·诺普斯;J·V·奥沃卡姆普 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流体 处理 结构 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
1.一种用于光刻设备的流体处理结构,所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有:
一个或多个弯液面钉扎特征,用以抵抗浸没流体沿径向向外的方向离开所述空间;
线性阵列形式的多个气体供给开口,其至少部分地围绕弯液面钉扎特征并且在弯液面钉扎特征的径向向外位置处,其中所述多个气体供给开口布置成线性阵列的每单位长度供给大体一致的气体流量。
2.如权利要求1所述的流体处理结构,其中,所述线性阵列形式的多个气体供给开口的尺寸类似或相同。
3.如权利要求2所述的流体处理结构,其中,所述线性阵列形式的多个气体供给开口的尺寸在预定尺寸的5%范围内。
4.如前述权利要求中任一项所述的流体处理结构,其中,所述线性阵列形式的多个气体供给开口沿线以周期图案布置。
5.如前述权利要求中任一项所述的流体处理结构,其中,所述线性阵列形式的多个气体供给开口等距地间隔分开。
6.如前述权利要求中任一项所述的流体处理结构,其中,所述弯液面钉扎特征包括以线性阵列形式布置的多个液体抽取开口。
7.如权利要求6所述的流体处理结构,其中,所述气体供给开口的线性阵列大体沿着液体抽取开口的线性阵列,使得线性阵列形式的气体供给开口和相邻液体抽取开口之间保持基本上恒定的间隔。
8.如前述权利要求中任一项所述的流体处理结构,还包括一个或多个外抽取器,其与气体开口的线性阵列间隔分开。
9.如权利要求8所述的流体处理结构,还包括一个或多个槽,所述槽在外抽取器和气体开口的线性阵列之间延伸。
10.如前述权利要求中任一项所述的流体处理结构,其中,所述线性阵列形式的多个气体供给开口在每米长度上的开口面积小于或等于6.0x10-5m2。
11.如前述权利要求中任一项所述的流体处理结构,其中,所述线性阵列形式的多个气体供给开口中的每个气体供给开口的横截面是基本上圆形的。
12.如前述权利要求中任一项所述的流体处理结构,还包括气体供给装置,其配置成供给二氧化碳至与在正对表面和流体处理结构之间延伸的弯液面邻近的区域。
13.一种用于光刻设备的流体处理结构,所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有:
以线性阵列形式布置的多个气体供给开口,其至少部分地围绕所述空间;和
与所述线性阵列间隔分开的一个或多个外抽取器。
14.一种浸没光刻设备,所述设备包括:
如权利要求1-13中任一项所述的流体处理结构。
15.一种器件制造方法,包括步骤:
将图案化辐射束投影通过限制在投影系统的最终元件和衬底之间的空间的浸没液体;和
通过线性阵列形式的多个气体供给开口提供气体至邻近浸没液体的弯液面的位置;
其中通过多个气体供给开口提供的气体在线性阵列的每单位长度具有大体一致的气体流量。
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