[发明专利]复合式靶材及其制作方法

权利要求书

1.一种复合式靶材制作方法，其特征在于，根据废靶材的蚀刻状态而制作复合式靶材，且该废靶材是通过存在有第一磁力线分布的溅射机台对至少具有基板层与金属层的原始靶材进行溅射作用之后的产生物，其包含：

判断该废靶材受到该第一磁力线分布所产生的该蚀刻状态，以决定第二磁力线分布，其中该第二磁力线分布用于调整该复合式靶材设置于该溅射机台时所承受的该第一磁力线分布；

在该原始靶材的该基板层上设置对应于该第二磁力线分布的磁性层；

在该磁性层与该基板层的上方设置金属层；以及

在该基板层、该磁性层与该金属层之间设置接合层，以结合该基板层、该磁性层与该金属层而形成该复合式靶材；

其中当该复合式靶材进行该溅射作用时，具有该第二磁力线分布的该复合式靶材将在该复合式靶材作用的该第一磁力线分布调整为第三磁力线分布。

2.如权利要求1所述的复合式靶材制作方法，其特征在于，还包含在该基板层局部地形成该磁性层，以在该复合式靶材上形成该第二磁力线分布。

3.如权利要求2所述的复合式靶材制作方法，其特征在于，还包含将该磁性层嵌入地设置于该基板层，以在该复合式靶材形成该第二磁场线分布状态。

4.如权利要求1所述的复合式靶材制作方法，其特征在于，该第三磁力线分布的密集度较第一磁力线分布低、曲线较平缓，而使得该第三磁力线与该金属层平行的磁力线区域宽于该第一磁力线分布与该金属层平行的磁力线区域。

5.一种复合式靶材，其特征在于，由具有第一磁力线分布的溅射机台进行溅射，其包含：

基板层，具有搭载面与承载面，该搭载面搭载于该溅射机台；

磁性层，设置于该基板层的该承载面，该磁性层产生第二磁力线分布，且该第二磁力线分布用于调整该第一磁力线分布为第三磁力线分布；

金属层，设置于该磁性层与该基板层的该承载面，该金属层具有该第二磁力线分布；以及

接合层，设置于该基板层、该磁性层与该金属层之间，该接合层接合该基板层、该磁性层与该金属层。

6.如权利要求5所述的复合式靶材，其特征在于，该磁性层的形状为格状、栅状、环状或其它任意形状，用于形成该第二磁力线分布。

7.如权利要求6所述的复合式靶材，其特征在于，该基板层还包含沟槽与孔洞的至少其中之一，用于嵌入地设置该磁性层。

8.如权利要求7所述的复合式靶材，其特征在于，还包含该接合层，填入在该沟槽与该孔洞的至少其中之一中该磁性层未填满的空间，用以接合该基板层、该磁性层与该金属层。

9.如权利要求5所述的复合式靶材，其特征在于，该金属层选自于由铝、铜、钼、钛以及前述任意组合所组成的一群组。

10.如权利要求5所述的复合式靶材，其特征在于，该磁性层选自于由铁、钴、镍、不锈钢以及前述任意组合所组成具有磁性材料的一群组。