[发明专利]一种微图形成形方法

权利要求书

1.采用传统光刻、电铸等相关技术完成两组目标微图形母版的制备；形成包含但不限于微米级线条的微图形压印母版。

2.采用包括但不限于卷对卷的纳米压印方式，将完成的两组微图形压印母版表面图案按照需要的对准规则压印于基底薄膜的两个表面。上述陈述中所述的基底薄膜为包含但不限于塑料的各种材质。

3.将包括但不限于油墨的颜料涂覆于基底薄膜单个表面或者两个表面，使得颜料能够填满压印完成后产生的微米级线条凹槽中。采用包括但不限于刮刀等手段与工具将凹槽外面的颜料刮除。

4.权利要求1所述的构成微图形母版中的线条不仅包括微米级的凸起线条，也包括几十微米甚至几百微米的凸起线条，压印完成后，基底薄膜表面不仅包括微米级的凹槽线条，也包括几十微米甚至几百微米的凹槽线条。对于母版中大于5微米的凸起线条中，在不同位置随机布置尺度在200纳米～2微米左右的缝隙。压印完成后，基底薄膜表面的凹槽中具有随机分布的加强筋，避免在后续利用刮刀等手段对基底薄膜表面凹槽外部颜料进行刮除的过程中，大尺度凹槽产生变形。

5.采用后续的干燥和涂覆保护漆等工艺对成形的微图案进行抗损伤处理。

6.通过在基底薄膜表面加工具有不同结构参数的凹槽结构，可获得由微米量级凹槽线条到几百微米甚至毫米量级线条构成的图案。如果基底薄膜另一面为微透镜阵列，则可形成动态、三维显示效果，可应用于显示、防伪等领域。