[发明专利]氮化钛薄膜制备方法及系统有效

专利信息
申请号: 201210247468.1 申请日: 2012-07-17
公开(公告)号: CN103540894A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 赵强;魏学宏;刘长安 申请(专利权)人: 无锡华润上华科技有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;H01L21/31
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 邓云鹏
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 氮化 薄膜 制备 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种氮化钛薄膜制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

将衬底加热;

通过物理气相沉积法在所述衬底上沉积制得氮化钛薄膜;

其中,将所述衬底加热到的温度高于沉积时的反应温度。

2.根据权利要求1所述的氮化钛薄膜制备方法,其特征在于,所述将衬底加热的步骤之前还包括以下步骤:

对所述衬底进行干燥。

3.根据权利要求1所述的氮化钛薄膜制备方法,其特征在于,所述将衬底加热的步骤中,将衬底加热至300℃;

所述通过物理气相沉积法在所述衬底上沉积制得氮化钛薄膜的步骤具体为:在温度为200℃,压力为530Pa的环境下,通入惰性气体,采用磁控溅射法,在所述衬底上沉积制得氮化钛薄膜。

4.根据权利要求3所述的氮化钛薄膜制备方法,其特征在于,所述惰性气体为氩气。

5.根据权利要求4所述的氮化钛薄膜制备方法,其特征在于,通入所述氩气的流量为每分钟40毫升。

6.一种氮化钛薄膜制备系统,其特征在于,包括:

高温腔,用于将衬底加热;及

沉积腔,用于通过物理气相沉积法在所述衬底上沉积制得氮化钛薄膜;

其中,所述高温腔将所述衬底加热到的温度高于所述沉积腔内沉积时的反应温度。

7.根据权利要求6所述的氮化钛薄膜制备系统,其特征在于,还包括干燥腔,用于对所述衬底进行干燥。

8.根据权利要求6所述的氮化钛薄膜制备系统,其特征在于,还包括第一机械臂,所述第一机械臂用于将衬底从所述高温腔传送至所述沉积腔。

9.根据权利要求6所述的氮化钛薄膜制备系统,其特征在于,所述高温腔将衬底加热至300℃;

在温度为200℃,压力为530Pa的所述沉积腔中,通入惰性气体,并采用磁控溅射法,在所述衬底上沉积制得氮化钛薄膜。

10.根据权利要求9所述的氮化钛薄膜制备系统,其特征在于,所述惰性气体为氩气,所述氩气的流量为每分钟40毫升。

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