[发明专利]一种联通井钻进过程中校正目标点位置的方法有效
| 申请号： | 201210249189.9 | 申请日： | 2012-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN103485713A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 荆小兵;司万春;郑翔 | 申请（专利权）人： | 南风化工集团股份有限公司 |
| 主分类号： | E21B7/00 | 分类号： | E21B7/00;E21B47/04 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 亓赢 |
| 地址： | 044000 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 联通 钻进 过程 校正 目标 位置 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种联通井钻进过程中校正目标点位置的方法，其特征在于包括以下步骤：(1)确定标志地层：根据地质资料，在地面至目标点C之间稳定的地质层之中选择至少一个标志地层；(2)钻进过程中，根据钻时数据、岩屑分析、组合测井结果实时确定各标志地层的实际深度；(3)根据各标志地层的实际深度与理论深度之间的差距修正目标点深度和/或造斜点深度。
2.如权利要求1所述的一种联通井钻进过程中校正目标点位置的方法，其特征在于，在地面至目标点C之间稳定的地质层之中，选择硬度、电阻率和/或密度特征的地层作为标志地质层。
3.如权利要求2所述的一种联通井钻进过程中校正目标点位置的方法，其特征在于，所选标志地层与相邻地层之间的硬度差大于2级。
4.如权利要求2所述的一种联通井钻进过程中校正目标点位置的方法，其特征在于，所选标志地层与相邻地层之间的电阻率差大于60欧姆米。
5.如权利要求2所述的一种联通井钻进过程中校正目标点位置的方法，其特征在于，所选标志地层与相邻地层之间的密度差大于0.3克/立方厘米。
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