[发明专利]抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀图案的方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含：

具有由式(I)表示的结构单元的树脂，

在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和

由式(II)表示的酸生成剂，

其中R¹表示氢原子或甲基；

A¹表示C₁至C₆烷二基；

A¹³表示任选具有一个或多个卤素原子的C₁至C₁₈二价脂族烃基；

X¹²表示*-CO-O-或*-O-CO-，*表示与A¹³的连接；

A¹⁴表示任选具有一个或多个卤素原子的C₁至C₁₇脂族烃基；

其中R²³和R²⁴独立地表示氟原子或C₁至C₆全氟烷基；

X²¹表示C₁至C₁₇二价饱和烃基，在所述二价饱和烃基中所含有的一个或多个氢原子可以被氟原子代替，并且在所述二价饱和烃基中所含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替；

R²⁵表示具有环醚结构的基团；并且

Z¹⁺表示有机阳离子。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹是1，2-亚乙基。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹³是C₁至C₆全氟烷二基。

4.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的X¹²是*-CO-O-，*表示与A¹³的连接。

5.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹⁴是环丙基甲基、环戊基、环己基、降冰片基或金刚烷基。

6.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(II)中的R²⁵是由式(IIA)或式(IIE)表示的基团：

其中s1表示1至4的整数，

t1表示0至2的整数，

条件是s1+t1表示1至4的整数；

s11表示1至4的整数，

t11表示0至2的整数；

s12表示1至4的整数，

t12表示0至2的整数，

条件是s12+t12表示0至4的整数；

R²⁶在每一次出现时表示C₁至C₁₂饱和烃基、C₆至C₁₈芳香族烃基，或者两个R²⁶连接在一起以形成环，并且在所述饱和烃基和所述芳香族烃基中所含有的一个或多个氢原子可以被C₁至C₆烷基或硝基代替，并且在所述饱和烃基和环中所含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-代替；

u1表示0至8的整数；

R²⁷和R²⁸每一次出现时独立地表示羟基、卤素原子、C₁至C₆烷基、C₁至C₆烷氧基、C₁至C₆羟基烷基、C₂至C₇酰基、C₂至C₇酰氧基或C₂至C₇酰氨基，或者R²⁷和R²⁸中的两个可以连接在一起以形成单键或环；

u2和u3独立地表示0至16的整数；

*表示与X²¹的连接。

7.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物还包含溶剂。

8.一种用于制备抗蚀图案的方法，所述方法包括下列步骤：

(1)将权利要求1所述的抗蚀剂组合物涂敷到基材上；

(2)将涂敷的组合物干燥以形成组合物层；

(3)将所述组合物层曝光；

(4)将曝光的组合物层加热，和

(5)将加热的组合物层显影。