[发明专利]抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含：

具有由式(I)表示的结构单元的树脂，

在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和

由式(II)表示的酸生成剂，

其中R¹表示氢原子或甲基；

A¹表示C₁至C₆烷二基；

A¹³表示任选具有一个或多个卤素原子的C₁至C₁₈二价脂肪族烃基；

X¹²表示*-CO-O-或*-O-CO-；*表示与A¹³的连接；

A¹⁴表示任选具有一个或多个卤素原子的C₁至C₁₇脂肪族烃基；

其中R^b1和R^b2独立地表示氟原子或C₁至C₆全氟烷基；

L^b1表示C₁至C₁₇二价饱和烃基，所述饱和烃基中含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替；

环W^b1表示C₂至C₃₆杂环；

R^b3表示氢原子或C₁至C₁₂烃基，所述烃基中含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替；

R^b4在每一次出现时均独立表示C₁至C₆烃基，所述烃基中含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替；

m表示0至6的整数；并且

Z¹⁺表示有机阳离子。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹是1，2-亚乙基。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹³是C₁至C₆全氟烷二基。

4.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的X¹²是*-CO-O-，*表示与A¹³的连接。

5.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹⁴是环丙基甲基、环戊基、环己基、降冰片基或金刚烷基。

6.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(II)中的L^b1是由式(L1-1)表示的基团，

其中L^b2表示单键或C₁至C₁₅二价饱和烃基，并且

*表示与-C(R^b1)(R^b2)-的碳原子的连接。

7.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中在式(II)中的Z¹⁺是三芳基锍阳离子。

8.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物还包含溶剂。

9.一种用于生产抗蚀图案的方法，所述方法包括下列步骤：

(1)将根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物涂敷到基材上；

(2)将涂敷的组合物干燥以形成组合物层；

(3)将所述组合物层曝光；

(4)将曝光的组合物层加热，和

(5)将加热的组合物层显影。