[发明专利]钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺有效

专利信息
申请号: 201210253921.X 申请日: 2012-07-20
公开(公告)号: CN102787297A 公开(公告)日: 2012-11-21
发明(设计)人: 董闯;陈宝清;牟宗信;王清;羌建兵;王英敏 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C23C14/16 分类号: C23C14/16;C23C14/32
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 侯明远
地址: 116024*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 钢铁 合金 真空 离子 镀铬 工艺 代替 现行
【权利要求书】:

1.一种钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺,其特征是钢铁、锌基合金工件(6)采用真空阴极电弧镀-磁控溅射-电子束离子镀技术,进行离子镀铬工艺代替现行电镀装饰铬工艺和离子镀超硬铬代替电镀硬铬,离子镀底膜铬代替现行电镀铬工艺中含氰电镀铜层,防止锌基合金工件(6)锌元素挥发,离子镀膜与工件(6)之间形成过渡层提高离子镀膜附着性,离子镀氮化锆或氮化铬代替现行电镀铬工艺中电镀镍层,离子镀鉻或离子镀钴代替现行电镀鉻工艺中电镀铬层,离子镀氮化铬和离子镀铬复合镀膜代替电镀硬铬,离子镀金属化合物光亮剂镀膜五氧化三钛(Ti3O5)或三氧化二鋁(Al2O3)或二氧化硅(SiO2)或氧化锆(ZrO2)或氧化锌(ZnO)提高离子镀膜光亮性。

2.根据权利要求1所述的一种钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺,其特征是工件(6)施加脉冲变負偏压工艺:电压-200V占空比10-30%时间4-8min→-400V占空比10-30%时间2-4min→-600V占空比10-30%时间2-4min→-(900—2000)V占空比10-30%时间6-10min→-300V占空比10-30%时间2-4min,离子镀底膜铬(Cr)代替现行电镀铬工艺中止氰电镀铜,膜层与工件(6)之间形成0.5-4微米(μ)厚度的过渡层,提高镀膜附着性,同时也防止锌基合金中锌(Zn)元素在真空离子镀过程中挥发。

3.根据权利要求1所述的一种钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺,其特征是离子镀耐蚀镀膜氮化锆(ZrN)或氮化铬(CrN)代替现行电镀铬工艺中电镀镍层。

4.根据权利要求1所述的一种钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺,其特征是离子镀铬或离子镀钴代替现行电镀装饰铬工艺中电镀铬层。

5.根据权利要求1所述的一种钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺,离子镀氮化铬和离子镀铬复合镀膜代替电镀硬铬。

6.根据权利要求1所述的一种钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺,其特征是离子镀金属化合物光亮剂镀膜五氧化三钛(Ti3O5)或三氧化二鋁(Al2O3)或二氧化硅(SiO2)或氧化锆(ZrO2)或氧化锌(ZnO)提高离子镀膜光亮性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210253921.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top